光刻膠的工作原理：
1. 涂覆與曝光：在基底（如硅片、玻璃、聚合物）表面均勻涂覆光刻膠，通過掩膜（或直接電子束掃描）對特定區(qū)域曝光。
2. 化學變化：曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學反應（正性膠曝光后溶解，負性膠曝光后交聯(lián)不溶）。
3. 顯影與刻蝕：溶解未反應的部分，留下圖案化的膠層，作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模，將圖案轉(zhuǎn)移到基底上。
在納米技術中，關鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限（λ/2），因此需依賴高能束曝光技術（如電子束光刻、極紫外EUV光刻）和高性能光刻膠（高分辨率、低缺陷）。
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? 正性光刻膠
? YK-300：適用于半導體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）。
? 技術優(yōu)勢：采用進口樹脂及光引發(fā)劑，絕緣阻抗高（>10^14Ω），滿足半導體器件對絕緣性的嚴苛要求。
? 負性光刻膠
? JT-1000：負性膠，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能，分辨率達3μm，適用于功率半導體、MEMS器件制造，可承受氫氟酸（HF）、磷酸（H3PO4）等強腐蝕液處理。
? SU-3：經(jīng)濟型負性膠，性價比高，適用于分立器件及低端邏輯芯片，光源適應性廣（248nm-436nm），曝光靈敏度≤200mJ/cm2。
2. 顯示面板光刻膠
? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設計，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）、良好的基板附著力，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造，支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn)。
? 水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產(chǎn)品，VOC含量<50g/L，符合歐盟RoHS標準，適用于柔性顯示基板，可制作20μm以下精細網(wǎng)點，主要供應京東方、TCL等面板廠商。
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吉田半導體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)鏈：
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芯片制造：YK-300 光刻膠服務中芯國際、長江存儲，支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
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顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%，成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
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新能源領域：無鹵無鉛焊片通過 UL 認證，批量應用于寧德時代儲能系統(tǒng)，年供貨量超 500 噸。
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研發(fā)投入：年研發(fā)費用占比超 15%，承擔國家 02 專項課題，獲 “國家技術發(fā)明二等獎”。
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產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸，納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%。
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質(zhì)量體系：通過 ISO9001、IATF 16949 等認證，生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理，批次穩(wěn)定性達 99.5%。
吉田半導體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā)，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術突破，目標在 2027 年前實現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時，深化國產(chǎn)供應鏈協(xié)同，構建 “材料 - 設備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈，為中國半導體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻 “吉田力量”。
從突破國際壟斷到行業(yè)標準，吉田半導體以自研自產(chǎn)為引擎，走出了一條中國半導體材料企業(yè)的崛起之路。未來，公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術，助力中國半導體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
廣東吉田半導體材料有限公司，坐落于松山湖經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，是半導體材料領域的一顆璀璨明珠。公司注冊資本 2000 萬元，專注于半導體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，是國家高新技術企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。
強大的產(chǎn)品陣容：吉田半導體產(chǎn)品豐富且實力強勁。芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠精細滿足芯片制造、微納加工等關鍵環(huán)節(jié)需求；半導體錫膏、焊片在電子焊接領域性能；靶材更是在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關鍵作用。這些產(chǎn)品遠銷全球，與眾多世界 500 強企業(yè)及電子加工企業(yè)建立了長期穩(wěn)固的合作關系。
雄厚的研發(fā)生產(chǎn)實力：作為一家擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)經(jīng)驗的綜合性企業(yè)，吉田半導體具備行業(yè)前列規(guī)模與先進的全自動化生產(chǎn)設備。23 年的深耕細作，使其在技術研發(fā)、工藝優(yōu)化等方面積累了深厚底蘊，能夠快速響應市場需求，不斷推出創(chuàng)新性產(chǎn)品。
嚴格的質(zhì)量管控：公司始終將品質(zhì)視為生命線，嚴格按照 ISO9001:2008 質(zhì)量體系標準監(jiān)控生產(chǎn)制程。生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理，從源頭抓起，所有生產(chǎn)材料均選用美國、德國、日本等國家進口的高質(zhì)量原料，確保客戶使用到超高質(zhì)量且穩(wěn)定的產(chǎn)品。
吉田半導體全流程解決方案，賦能客戶提升生產(chǎn)效率。
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產(chǎn)品特點：耐溶劑型優(yōu)良，抗潮耐水性好，耐印率高；固含量高，流平性好，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術處理，網(wǎng)版平滑、無白點、無沙眼、亮度高；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用；解像性、高架橋性好，易做精細網(wǎng)點和線條；感光度高，曝光時間短，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間，提高工作效率 。
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應用范圍：適用于塑料、皮革、標牌、印刷電路板（PCB）、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿足皮革制品精細印刷需求，制作各類標牌保證圖案清晰，用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
松山湖企業(yè)深耕光刻膠領域二十載，提供全系列半導體材料解決方案。高溫光刻膠國產(chǎn)廠商
正性光刻膠生產(chǎn)原料。廣州LED光刻膠感光膠
“設備-材料-工藝”閉環(huán)驗證
吉田半導體與中芯國際、華虹半導體等晶圓廠建立了聯(lián)合研發(fā)機制，針對28nm及以上成熟制程開發(fā)專門使用光刻膠，例如其KrF光刻膠已通過中芯國際北京廠的產(chǎn)線驗證，良率達95%以上。此外，公司參與國家重大專項（如02專項），與中科院微電子所合作開發(fā)EUV光刻膠基礎材料，雖未實現(xiàn)量產(chǎn)，但在酸擴散控制和靈敏度優(yōu)化方面取得階段性突破。
政策支持與成本優(yōu)勢
作為廣東省專精特新企業(yè)，吉田半導體享受稅收優(yōu)惠（如15%企業(yè)所得稅）和研發(fā)補貼（2023年獲得國家補助超2000萬元），比較明顯降低產(chǎn)品研發(fā)成本。同時，其本地化生產(chǎn)（東莞松山湖基地）可將物流成本壓縮至進口產(chǎn)品的1/3，并實現(xiàn)48小時緊急訂單響應，這對中小客戶具有吸引力。
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