商機詳情 -
吉林低溫光刻膠供應商
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發(fā)布時間：2025年06月19日
研發(fā)投入的“高門檻”
一款KrF光刻膠的研發(fā)費用約2億元，而國際巨頭年研發(fā)投入超10億美元。國內企業(yè)如彤程新材2024年半導體光刻膠業(yè)務營收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長期技術攻關。
2. 價格競爭的“雙重擠壓”
國內PCB光刻膠價格較國際低30%，但半導體光刻膠因性能差距，價格為進口產品的70%，而成本卻高出20%。例如，國產ArF光刻膠售價約150萬元/噸，而日本同類產品為120萬元/噸，且性能更優(yōu)。
突破路徑與未來展望
原材料國產化攻堅：聚焦樹脂單體合成、光酸純化等關鍵環(huán)節(jié)，推動八億時空、怡達股份等企業(yè)實現百噸級量產。
技術路線創(chuàng)新：探索金屬氧化物基光刻膠、電子束光刻膠等新方向，華中科技大學團隊已實現5nm線寬原型驗證。
產業(yè)鏈協同創(chuàng)新：借鑒“TSMC-供應商”模式，推動晶圓廠與光刻膠企業(yè)共建聯合實驗室，縮短認證周期。
政策與資本雙輪驅動：依托國家大基金三期，對通過驗證的企業(yè)給予設備采購補貼（30%），并設立專項基金支持EUV光刻膠研發(fā)。
負性光刻膠的工藝和應用場景。吉林低溫光刻膠供應商
? 正性光刻膠
? YK-300：適用于半導體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）。
? 技術優(yōu)勢：采用進口樹脂及光引發(fā)劑，絕緣阻抗高（>10^14Ω），滿足半導體器件對絕緣性的嚴苛要求。
? 負性光刻膠
? JT-1000：負性膠，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能，分辨率達3μm，適用于功率半導體、MEMS器件制造，可承受氫氟酸（HF）、磷酸（H3PO4）等強腐蝕液處理。
? SU-3：經濟型負性膠，性價比高，適用于分立器件及低端邏輯芯片，光源適應性廣（248nm-436nm），曝光靈敏度≤200mJ/cm2。
2. 顯示面板光刻膠
? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設計，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）、良好的基板附著力，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造，支持8.5代線以上大規(guī)模生產。
? 水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產品，VOC含量<50g/L，符合歐盟RoHS標準，適用于柔性顯示基板，可制作20μm以下精細網點，主要供應京東方、TCL等面板廠商。
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領域。
厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年，適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景，如一些特殊的電路板制造。
SU - 3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應。重量為 100g，常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率，準確性和穩(wěn)定性好。主要應用于液晶平板顯示器的制造，能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高。重量 100g，適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如一些半導體器件的制造。 半導體材料選吉田，歐盟認證，支持定制化解決方案！
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。
厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。
負性光刻膠
- SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。
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- LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，確保 LCD 生產中圖形精確轉移和良好涂布效果。
- 半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。
感光膠的工藝和應用。吉林低溫光刻膠供應商
技術優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細分領域突破
全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實現了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，實現了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器、光學器件等領域。
技術壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經驗，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術，部分原材料純度達PPT級。
細分領域技術先進
? 納米壓印光刻膠：在納米級圖案化領域（如量子點顯示、生物芯片）實現技術突破，分辨率達3μm，填補國內空缺。
? LCD光刻膠：針對顯示面板行業(yè)需求，開發(fā)出高感光度、高對比度的光刻膠，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術。
研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術性企業(yè)認證，與新材料領域同伴們合作開發(fā)半導體光刻膠，計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā)。
吉林低溫光刻膠供應商
標簽：
錫膏
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