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商機(jī)詳情 -

蘇州正性光刻膠

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025年04月26日

吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001:國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級

JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。
吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝,批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%,加速國產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級,推動(dòng) PCB 行業(yè)國產(chǎn)化進(jìn)程。
無鹵無鉛錫育廠家吉田,RoHS 認(rèn)證,為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!蘇州正性光刻膠

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,適用于不同領(lǐng)域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蝕的特性,適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。 青海3微米光刻膠品牌吉田質(zhì)量管控與認(rèn)證壁壘。

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 技術(shù)挑戰(zhàn):

? 技術(shù)壁壘:EUV光刻膠、3nm以下制程材料仍處研發(fā)階段,光刻膠分辨率、靈敏度與國際水平存在差距(如東京應(yīng)化ArF膠分辨率達(dá)14nm)。

? 供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn):樹脂、光引發(fā)劑等原材料自給率不足8%,部分依賴進(jìn)口(如日本信越化學(xué));美國對華技術(shù)封鎖可能影響設(shè)備采購。

? 客戶驗(yàn)證:光刻膠需通過晶圓廠全流程測試,驗(yàn)證周期長(1-2年),國內(nèi)企業(yè)在頭部客戶滲透率較低。

未來展望:

? 短期(2025-2027年):KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率預(yù)計(jì)提升至10%-15%,南大光電、上海新陽等企業(yè)實(shí)現(xiàn)28nm-7nm制程產(chǎn)品量產(chǎn),部分替代日本進(jìn)口。

? 中期(2028-2030年):EUV光刻膠進(jìn)入中試驗(yàn)證階段,原材料自給率提升至30%,國內(nèi)企業(yè)在全球市場份額突破15%。

? 長期(2030年后):實(shí)現(xiàn)光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈自主可控,技術(shù)指標(biāo)對標(biāo)國際前列,成為全球半導(dǎo)體材料重要供應(yīng)商。

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域,通過差異化技術(shù)(如納米壓印、厚膜工藝)和環(huán)保特性(水性配方),滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域(如第三代半導(dǎo)體、Mini LED)的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝,還通過材料創(chuàng)新推動(dòng)行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展。吉田半導(dǎo)體光刻膠的優(yōu)勢在于技術(shù)全面性、環(huán)保創(chuàng)新、質(zhì)量穩(wěn)定性及本土化服務(wù),尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領(lǐng)域形成差異化競爭力。

政策支持:500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈。

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 光伏電池(半導(dǎo)體級延伸)

? HJT/TOPCon電池:在硅片表面圖形化金屬電極,使用高靈敏度光刻膠(曝光能量≤50mJ/cm2),線寬≤20μm,降低遮光損失。

? 鈣鈦礦電池:用于電極圖案化和層間隔離,需耐有機(jī)溶劑(適應(yīng)溶液涂布工藝)。

 納米壓印技術(shù)(下一代光刻)

? 納米壓印光刻膠:通過模具壓印實(shí)現(xiàn)10nm級分辨率,用于3D NAND存儲(chǔ)孔陣列(直徑≤20nm)、量子點(diǎn)顯示陣列等。

 微流控與生物醫(yī)療

? 微流控芯片:制造微米級流道(寬度10-100μm),材料需生物相容性(如PDMS基材適配)。

? 生物檢測芯片:通過光刻膠圖案化抗體/抗原固定位點(diǎn),精度≤5μm。
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PCB光刻膠國產(chǎn)化率超50%。蘇州正性光刻膠

 上游原材料:

? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb)。

? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計(jì)形成噸級訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。

? 溶劑:怡達(dá)股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn)。

設(shè)備與驗(yàn)證:

? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),驗(yàn)證周期較國際廠商縮短6個(gè)月;徐州博康實(shí)現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產(chǎn)化,適配ASML Twinscan NXT系列光刻機(jī)。

? 國內(nèi)企業(yè)通過18-24個(gè)月的晶圓廠驗(yàn)證周期(如中芯國際、長江存儲(chǔ)),一旦導(dǎo)入不易被替代。
蘇州正性光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司在同行業(yè)領(lǐng)域中,一直處在一個(gè)不斷銳意進(jìn)取,不斷制造創(chuàng)新的市場高度,多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價(jià)值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),在廣東省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的商業(yè)口碑,成績讓我們喜悅,但不會(huì)讓我們止步,殘酷的市場磨煉了我們堅(jiān)強(qiáng)不屈的意志,和諧溫馨的工作環(huán)境,富有營養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,勇于進(jìn)取的無限潛力,吉田半導(dǎo)體供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來,回首過去,我們不會(huì)因?yàn)槿〉昧艘稽c(diǎn)點(diǎn)成績而沾沾自喜,相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍,我們更要明確自己的不足,做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備,要不畏困難,激流勇進(jìn),以一個(gè)更嶄新的精神面貌迎接大家,共同走向輝煌回來!

標(biāo)簽: 光刻膠
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