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晶須生長的「隱患與對策」：純錫片在長期應力下可能產生「錫晶須」（直徑1-5μm，長度可達1mm），導致電路短路。通過添加0.05%的鎳或銻，可抑制晶須生長速率90%以上，保障精密儀器（如衛星導航系...

物理與機械性能 無鉛錫片 有鉛錫片 熔點 較高，通常在217℃~260℃之間（取決于合金成分，如SAC305熔點217℃，Sn-Cu合金熔點227℃），焊接需更高溫度（240℃~...

焊點缺陷控制不同 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 常見缺陷 易出現 焊點空洞、裂紋、不潤濕（因冷卻收縮率大，約2.1%），尤其在BGA等大面積焊點中風險高。 主要缺陷為 虛焊...

高壓閥門的「無火花密封」：在石油化工領域，錫片（純度99.9%）制成的密封墊片可承受20MPa壓力與150℃高溫，其莫氏硬度只有1.5（低于鋼鐵），在螺栓緊固時能填滿0.05mm以下的金屬表面缺陷...

耐腐蝕性的化學機制 表面氧化膜的保護作用 ? 錫（Sn）在常溫下與空氣中的氧氣反應，生成一層致密的二氧化錫（SnO?）薄膜，該膜附著性強，能有效阻止氧氣和...

全品類覆蓋與定制化能力 吉田半導體的光刻膠產品覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠等全品類，適用于半導體、顯示面板、MEMS等多個領域。例如，其LCD正性光刻膠YK-200和水油光...

納米電子器件制造 ? 半導體芯片：在22nm以下制程中，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極、納米導線等關鍵結構，實現芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GA...

國產替代進程加速 日本信越化學因地震導致KrF光刻膠產能受限后，國內企業加速驗證本土產品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產線2024年12月獲兩家大廠百萬大單，二期300噸生產線在建。武...

納米制造與表面工程 ? 納米結構模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列、孔陣列），用于批量復制微流控芯片或柔性顯...

生產設備與工藝：從設計到制造的“木桶效應” 前端設備的進口依賴 光刻膠生產所需的超臨界流體萃取設備、納米砂磨機等關鍵裝備被德國耐馳、日本光洋等企業壟...

光刻膠系列： 厚板光刻膠 JT - 3001，具備優異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年； 水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3...

吉田半導體助力區域經濟，構建半導體材料生態圈，發揮企業作用，吉田半導體聯合上下游資源，推動東莞松山湖半導體產業協同創新。 作為松山湖產業集群重要成員，吉田半導體聯合光刻機制造商、光電子企業共建材料生態...