中移出并在恒定的溫度下孵育顫抖。如果需要過度保溫，建議冷藏。雖然表面上的污點支架可能看起來部分干燥，印跡不會變干，因為溶液包含在框架中。注意：如果長時間處理多個印跡，則可以堆疊印跡固定框架減少工作空間?？蛇x：如果要回收一抗，請先將抗體回收盤放入底座，然后再繼續執行步驟4。4.延長孵育時間后，將框架放回底座上，卸下蓋子，然后按照步驟8進行操作。通用議定書第12條。注意：SNAP i.d不需要延長二抗的孵育時間。 2.0系統。建議使用5倍濃度的二抗，持續10分鐘?？贵w回收1.執行《通用議定書》的步驟1至5，但將真空時間增加到2分鐘，以確保所有的封閉溶液都已從框架的凹槽和通道中移除。2.從底座上取下印跡固定框架，并用一根刷子擦拭框架底部的所有殘留液體。紙巾。3.將抗體收集盤放入底座，確?？贵w上的定上海益啟生物的電阻儀詢價公司電話。金山區MerckWB實驗加速器Merck儀器銷售

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盤，請在步驟5之后插入托盤。有關詳細信息，請參閱“抗體恢復”部分。 6.在整個表面上涂適量的一抗吸墨紙架的數量（對于MultiBlot為2.5毫升，對于迷你吸墨紙為5毫升，或10 mL用于Midi印跡）。7.在室溫下孵育10分鐘。解決方案將是吸收到污點固定器中，表面可能會變干。重要提示：請勿在吸塵器清潔后再使用真空吸塵器。孵育10分鐘。8.向下壓框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在連續運行真空的情況下，添加30 mL洗滌緩沖液（MultiBlot為15毫升）。重復洗滌步驟3次以上（總共4次洗滌）。當框架完全為空時，將TURN真空關閉。10.在印跡架的表面上涂適量的二抗（對于多印跡，為2.5 mL，5毫升用于迷你印跡，或10毫升用于Midi印跡）。在室溫下孵育10分鐘，然后

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密封的平板/m歧管組件放在倒置顯微鏡。6.在擴展的灌注實驗中，定期將7孔倒空至避免出口溢流到歧管和灌注系統中。在CellASICOONX2軟件的“運行”選項卡上，單擊“暫?！卑粹o。按下儀器上或“工具”下拉菜單中的“密封”按鈕在下拉菜單中，單擊開封板。從板，并抽吸良好。7.將歧管重新密封到板上，然后在在“運行”選項卡上，單擊“恢復”以重新啟動每個融合協議。解決方案切換1.從選定的進水口（1-5）吸出溶液。加至350μL所需的解決方案。如果少于四個單位（A-D）使用時，用緩沖液填充未使用的進口井，以防只托水。2.根據以下說明將微流體板密封到ONIX2歧管上：CellASIC@ONIX2微流體系統用戶指南。3.打開CelIASICOONIX2軟件，在下拉列表，然后單擊ProtocolEditor選金山區MerckWB實驗加速器Merck儀器銷售

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