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技術密集BOE蝕刻液商家

來源: 發布時間:2025年04月03日

    形成氣液混合體,從擴散管22排出又進入到再生液調配缸3。電解再生某線路板生產線蝕刻廢液,蝕刻廢液量1000m3/d,相比沒有使用本實用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統,能耗節約40%,節約使用藥品100kg/d,經濟效益提高30%。作為本實施例的一個示例,電解槽1的陽極可選用石墨電極,陰極可選用鈦或鈦合金板狀電極,電解槽1中陰極與陽極之間的距離為55mm,電解槽1的電流密度為300a/m2。與實施例相結合,圖2示出了本實用新型第二實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統的結構,在實施例的基礎上,第二實施例進一步包括曝氣裝置5,曝氣裝置5通過管道深入到再生液調配缸3的液體中,用于向再生液調配缸3中的電解后液輸送氣體以進行攪拌,以提高整個系統的工作效率。進一步地,與上述、第二實施例相結合,酸性蝕刻液電解后液處理系統還可以包括一后續處理系統,用于向經過再生液調配缸3處理過的電解后液中加入氯化鈉、鹽酸并攪拌均勻,然后再打入到子液桶,實現再生液循環利用。以上所述為本實用新型的較佳實施例而已,并不用以限制本實用新型,凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等,均應包含在本實用新型的保護范圍之內。BOE 蝕刻液(Buffered Oxide Etch)是一種在微加工和半導體制造過程中常用的蝕刻溶液。技術密集BOE蝕刻液商家

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    添加劑為二乙二醇單甲醚、三乙二醇乙醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分別為%、%、%。實施例6本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制,先稱取濃度為85%的磷酸,然后稱取添加劑加入磷酸中,該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、月桂酰氨乙基硫酸鈉,添加量分別為總質量的%、%、%。對照例對照例中所含成分顯示于表1,并采用與實施例相同的方法進行處理。對照例1為純磷酸,總質量為400g。對照例2為磷酸、丙二醇丁醚,其中丙二醇丁醚的添加量為總質量的%。對照例3為磷酸、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,其中脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p的添加量為總質量的%。結果如表2所示,與對照例蝕刻液相比,實施例蝕刻液有更低的表面張力和接觸角,并且氮化硅層蝕刻后顯示出良好的均勻性。表1表2顯然,上述實施例和對照例是為了清楚地說明所作的實例,而并非對實施方式的限制。對于所屬領域的技術人員來說,在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動,這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而因此所引申的顯而易見的變化或變動仍處于本發明創造的保護范圍之內。

    此處所描述的具體實施例用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。參照圖1,本實用新型實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統包括:電解槽1、射流器2、再生液調配缸3、液體泵4,其中,電解槽1具有一出液口和出氣口,且電解槽1中內置有酸性蝕刻液,電解槽1對該酸性蝕刻液進行電解提銅,產生氯氣,得到電解后液,并且,產生的氯氣通過位于上方的出氣口排出,電解后液通過位于下方的出液口排出。射流器2包括混氣室21和擴散管22,混氣室21和擴散管22之間為喉管,混氣室21具有進氣口2a、進液口2b、出液口2c,擴散管22連接至出液口2c,進氣口2a通過導氣管a與電解槽1的出氣口連接以接收氯氣,擴散管22深入到再生液調配缸3中。再生液調配缸3具有進液口和循環出液口,進液口通過管道b與電解槽1的出液口連接以接收電解后液。液體泵4的一端通過管道b連接再生液調配缸3的循環出液口,另一端通過管道b連接射流器2的進液口2b,用于將再生液調配缸3中的電解后液通過管道b抽取至射流器2的進液口2b。電解槽1電解提銅后,陽極產生的氯氣通過導氣管a進入到射流裝置2的混氣室21內,電解后液通過液體泵4打入到射流裝置2的混氣室21,在混氣室21形成真空,在喉管處氯氣與電解后液劇烈混合。BOE蝕刻液適用于哪些行業。

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