光刻膠國產代替是中國半導體產業(yè)的迫切需要；自從中美貿易摩擦依賴，中國大陸積極布局集成電路產業(yè)。在半導體材料領域，光刻膠作為是集成電路制程技術進步的“燃料”，是國產代替重要環(huán)節(jié)，也是必將國產化的產品。光刻是半導制程的中心工藝，對制造出更先進，晶體管密度更大的集成電路起到決定性作用。每一代新的光刻工藝都需要新一代的光刻膠技術相匹配。現在，一塊半導體芯片在制造過程中一般需要進行10-50道光刻過程。其中不同的光刻過程對于光刻膠也有不一樣的具體需求。廣東省科學院半導體研究所。光刻版就是在蘇打材料通過光刻、刻蝕等工藝在表面使用鉻金屬做出我們所需要的圖形。廣東MEMS光刻

常用的光刻膠主要是兩種，正性光刻膠（positive photoresist）被曝光的部分會被顯影劑去除，負性光刻膠(negative photoresist)未被曝光的部分會被顯影劑去除。正性光刻膠主要應用于腐蝕和刻蝕工藝，而負膠工藝主要應用于剝離工藝（lift-off）。光刻是微納加工當中不可或缺的工藝，主要是起到圖形化轉移的作用。常規(guī)的光刻分為有掩膜光刻和無掩膜光刻。無掩膜光刻主要是電子束曝光和激光直寫光，有掩膜光刻主要是接觸式曝光、非接觸式曝光和stepper光刻。對于有掩膜光刻，首先需要設計光刻版，常用的設計軟件有CAD、L-edit等軟件。廣東MEMS光刻目前中國光刻膠國產化水平嚴重不足，重點技術差距在半導體光刻膠領域，有2-3代差距。

光刻膠是光刻工藝的中心材料：光刻膠又稱光致抗蝕劑，它是指由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分構成的對光敏感的混合液體。在紫外光、電子束、離子束、X 射線等輻射的作用下，其感光樹脂的溶解度及親和性由于光固化反應而發(fā)生變化，經適當溶劑處理，溶去可溶部分可獲得所需圖像。生產光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體及其他助劑等。光刻膠作為光刻曝光的中心材料，其分辨率是光刻膠實現器件的關鍵尺寸（如器件線寬）的衡量值，光刻膠分辨率越高形成的圖形關鍵尺寸越小。對比度是指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度，對比度越高，形成圖形的側壁越陡峭，圖形完成度更好。

一般微電子化學品具有一定的腐蝕性，對生產設備有較高的要求，且生產環(huán)境需要進行無塵或微塵處理。制備較優(yōu)微電子化學品還需要全封閉、自動化的工藝流程，以避免污染，提高質量。因此，光刻膠等微電子化學品生產在安全生產、環(huán)保設備、生產工藝系統(tǒng)、過程控制體系以及研發(fā)投資等方面要求較高。如果沒有強大的資金實力，企業(yè)就難以在設備、研發(fā)和技術服務上取得競爭優(yōu)勢，以提升可持續(xù)發(fā)展能力。因此，光刻膠這樣的微電子化學品行業(yè)具備較高的資金壁壘。廣東省科學院半導體研究所。正膠光刻的基本流程：襯底清洗、前烘以及預處理，涂膠、軟烘、曝光、顯影、圖形檢查，后烘。

接觸式光刻曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點是可以使用價格較低的設備制造出較小的特征尺寸。接觸式光刻和深亞微米光源已經達到了小于0.1μm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5μm左右。接觸式光刻機的掩模版包括了要復制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個由手動控制的臺子上，臺子可以進行X、y方向及旋轉的定位控制。掩模版和襯底晶片需要通過分立視場的顯微鏡同時觀察，這樣操作者用手動控制定位臺子就能把掩模版圖形和襯底晶片上的圖形對準了。經過紫外光曝光，光線通過掩模版透明的部分，圖形就轉移到了光刻膠上。深紫外線堅膜使正性光刻膠樹脂發(fā)生交聯(lián)形成一層薄的表面硬殼，增加光刻膠的熱穩(wěn)定性。廣東MEMS光刻

光刻膠是一種有機化合物，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。廣東MEMS光刻

光刻膠行業(yè)具有極高的行業(yè)壁壘，因此在全球范圍其行業(yè)都呈現寡頭壟斷的局面。光刻膠行業(yè)長年被日本和美國專業(yè)公司壟斷。目前前五大廠商就占據了全球光刻膠市場87%的份額，行業(yè)集中度高。并且高分辨率的KrF和ArF半導體光刻膠中心技術亦基本被日本和美國企業(yè)所壟斷，產品絕大多數出自日本和美國公司。整個光刻膠市場格局來看，日本是光刻膠行業(yè)的巨頭聚集地。目前中國大陸對于電子材料，特別是光刻膠方面對國外依賴較高。所以在半導體材料方面的國產代替是必然趨勢。廣東MEMS光刻

廣東省科學院半導體研究所坐落于長興路363號，是集設計、開發(fā)、生產、銷售、售后服務于一體，電子元器件的服務型企業(yè)。公司在行業(yè)內發(fā)展多年，持續(xù)為用戶提供整套微納加工技術服務，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務，材料刻蝕技術服務的解決方案。本公司主要從事微納加工技術服務，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務，材料刻蝕技術服務領域內的微納加工技術服務，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務，材料刻蝕技術服務等產品的研究開發(fā)。擁有一支研發(fā)能力強、成果豐碩的技術隊伍。公司先后與行業(yè)上游與下游企業(yè)建立了長期合作的關系。芯辰實驗室,微納加工致力于開拓國內市場，與電子元器件行業(yè)內企業(yè)建立長期穩(wěn)定的伙伴關系，公司以產品質量及良好的售后服務，獲得客戶及業(yè)內的一致好評。我們本著客戶滿意的原則為客戶提供微納加工技術服務，真空鍍膜技術服務，紫外光刻技術服務，材料刻蝕技術服務產品售前服務，為客戶提供周到的售后服務。價格低廉優(yōu)惠，服務周到，歡迎您的來電！