紅外顯微鏡（非熱紅外）與熱紅外顯微鏡應用領域各有側重。前者側重成分分析，在材料科學中用于檢測復合材料界面成分、涂層均勻性及表面污染物；生物醫藥領域可識別生物組織中蛋白質等分子分布，輔助診斷；地質學和考古學中能鑒定礦物組成與文物顏料成分；食品農業領域則用于檢測添加劑、農藥殘留及農作物成分。熱紅外顯微鏡聚焦溫度與熱特性研究，電子半導體領域可定位芯片熱點、評估散熱性能；材料研究中測試熱分布均勻性與熱擴散系數；生物醫藥領域監測細胞代謝熱分布及組織熱傳導；工業質檢能檢測機械零件隱形缺陷，評估電池充放電溫度變化。二者應用有交叉，但分別為成分分析與熱特性研究。熱紅外顯微鏡在 3D 封裝檢測中，通過熱傳導分析確定內部失效層 。無損熱紅外顯微鏡用戶體驗

在失效分析中，零成本簡單且常用的三個方法基于“觀察-驗證-定位”的基本邏輯，無需復雜設備即可快速縮小失效原因范圍：

1.外觀檢查法（VisualInspection）

2.功能復現與對比法（FunctionReproduction&Comparison）

3.導通/通路檢查法（ContinuityCheck）

但當失效分析需要進階到微觀熱行為、隱性感官缺陷或材料/結構內部異常的層面時，熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI) 能成為關鍵工具，與基礎方法結合形成更深度的分析邏輯。在進階失效分析中，熱紅外顯微鏡可捕捉微觀熱分布，鎖定電子元件微區過熱（如虛焊、短路）、材料內部缺陷（如裂紋、氣泡）引發的隱性熱異常，結合動態熱演化記錄，與基礎方法協同，從 “不可見” 熱信號中定位失效根因。 半導體熱紅外顯微鏡范圍熱紅外顯微鏡通過納秒級瞬態熱捕捉，揭示高速芯片開關過程的瞬態熱失效機理。

致晟光電自主研發的熱紅外顯微鏡 Thermal EMMI P系列，是電子工業中不可或缺的精密檢測工具，在半導體芯片、先進封裝技術、功率電子器件以及印刷電路板（PCB）等領域的失效分析中發揮著舉足輕重的作用。

該設備搭載——實時瞬態鎖相紅外熱分析（RTTLIT）系統，并集成高靈敏度紅外相機、多倍率可選顯微鏡鏡頭、精確高低壓源表等技術組件，賦予其三大特性：超凡靈敏度與亞微米級檢測精度，可捕捉微弱熱信號與光子發射；高精度溫度測量能力（鎖相靈敏度達0.001℃），支持動態功耗分析；無損故障定位特性，無需破壞器件即可鎖定短路、開路等缺陷。憑借技術集成優勢，ThermaEMMIP系列不僅能快速定位故障點，更能通過失效分析優化產品質量與可靠性，為半導體制造、先進封裝及電子器件研發提供關鍵技術支撐。

半導體制程已逐步進入 3 納米及更先進階段，芯片內部結構日趨密集，供電電壓也持續降低，這使得微觀熱行為對器件性能的影響變得更為明顯。致晟光電熱紅外顯微鏡是在傳統熱發射顯微鏡基礎上，經迭代進化而成的精密工具。在先進制程研發中，它在應對熱難題方面能提供一定支持，在芯片設計驗證、失效排查以及性能優化等環節，都能發揮相應的作用。其通過不斷優化的技術，適應了先進制程下對微觀熱信號檢測的需求，為相關研發工作提供了有助于分析和解決問題的熱分布信息，助力研發人員更好地推進芯片相關的研究與改進工作。
區分 LED、激光二極管的電致發光熱點與熱輻射異常，優化光電轉換效率。

在失效分析的有損分析中，打開封裝是常見操作，通常有三種方法。全剝離法會將集成電路完全損壞，留下完整的芯片內部電路。但這種方法會破壞內部電路和引線，導致無法進行電動態分析，適用于需觀察內部電路靜態結構的場景。局部去除法通過特定手段去除部分封裝，優點是開封過程不會損壞內部電路和引線，開封后仍可進行電動態分析，能為失效分析提供更豐富的動態數據。自動法則是利用硫酸噴射實現局部去除，自動化操作可提高效率和精度，不過同樣屬于破壞性處理，會對樣品造成一定程度的損傷。

熱紅外顯微鏡支持芯片、電路板等多類電子元件熱檢測。工業檢測熱紅外顯微鏡備件

熱紅外顯微鏡在電子產品研發階段，輔助優化熱管理方案 。無損熱紅外顯微鏡用戶體驗

當電子設備中的某個元件發生故障或異常時，常常伴隨局部溫度升高。熱紅外顯微鏡通過高靈敏度的紅外探測器，能夠捕捉到極其微弱的熱輻射信號。這些探測器通常采用量子級聯激光器等先進技術，或其他高性能紅外傳感方案，具備寬溫區、高分辨率的成像能力。通過對熱輻射信號的精細探測與分析，熱紅外顯微鏡能夠將電子設備表面的溫度分布以高對比度的熱圖像形式呈現，直觀展現熱點區域的位置、尺寸及溫度變化趨勢，從而幫助工程師快速鎖定潛在的故障點，實現高效可靠的故障排查。無損熱紅外顯微鏡用戶體驗

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