廣東省科學院半導體研究所
未來材料刻蝕技術的發(fā)展將呈現出多元化、高效化和智能化的趨勢。隨著納米技術的不斷發(fā)展和新型半導體材料的不斷涌現,對材料刻蝕技術的要求...
光源的選擇對光刻效果具有至關重要的影響。光刻機作為半導體制造中的能耗大戶,其光源的能效也是需要考慮的重要因素。選擇能效較高的光源可...
對準與校準是光刻過程中確保圖形精度的關鍵步驟?,F代光刻機通常配備先進的對準和校準系統(tǒng),能夠在拼接過程中進行精確調整。通過定期校準系...
ICP材料刻蝕技術以其獨特的工藝特點,在半導體制造、微納加工等多個領域得到普遍應用。該技術通過精確調控等離子體的能量分布和化學活性...
感應耦合等離子刻蝕(ICP)是一種高精度、高效率的材料去除技術,普遍應用于微電子制造、半導體器件加工等領域。該技術利用高頻感應產生...