氮化鋁，共價鍵化合物，化學式為AIN，是原子晶體，屬類金剛石氮化物、六方晶系，纖鋅礦型的晶體結構，無毒，呈白色或灰白色。AlN很高可穩定到2200℃。室溫強度高，且強度隨溫度的升高下降較慢。導熱性好，熱膨脹系數小，是良好的耐熱沖擊材料。抗熔融金屬侵蝕的能力強，是熔鑄純鐵、鋁或鋁合金理想的坩堝材料。氮化鋁還是電絕緣體，介電性能良好，用作電器元件也很有希望。砷化鎵表面的氮化鋁涂層，能保護它在退火時免受離子的注入。氮化鋁還是由六方氮化硼轉變為立方氮化硼的催化劑。室溫下與水緩慢反應.可由鋁粉在氨或氮氣氛中800~1000℃合成，產物為白色到灰藍色粉末。或由Al2O3-C-N2體系在1600~1750℃反應合成，產物為灰白色粉末。或氯化鋁與氨經氣相反應制得.涂層可由AlCl3-NH3體系通過氣相沉積法合成。關于氮化鋁的導熱機理，國內外已做了大量的研究，并已形成了較為完善的理論體系。杭州單晶氧化鋁銷售公司

隨著電子和光電行業蓬勃發展，電子產品的功能越發，同時體積也越來越小，使集成電路(IC)和電子系統在半導體工業上也朝向高集成密度以及高功能化的方向發展。目前，封裝基板材料主要采用氧化鋁陶瓷或高分子材料，但隨著對電子零件的承載基板的要求越來越嚴格，它們的熱導率并不能滿足行業的需求，而AlN因具有良好的物理和化學性能逐步成了封裝材料的首要選擇。氮化鋁陶瓷室溫比較強度高，且不易受溫度變化影響，同時熱導率高（比氧化鋁高5-8倍）且熱膨脹系數低，所以耐熱沖擊好，能耐2200℃的極熱，是一種優良的耐熱沖材料及熱交換材料，作為熱交換材料，可望應用于燃氣輪機的熱交換器上。杭州單晶氧化鋁銷售公司氮化鋁膜很早用化學氣相沉積(CVI)制備，其沉積溫度高達1000攝氏度以上。

氮化鋁陶瓷的制備技術：模壓成型是應用很較廣的成型工藝。其工藝原理是將經過噴霧造粒后流動性好的造粒料填充到金屬模腔內，通過壓頭施加壓力，壓頭在模腔內產生移動，模腔內粉體在壓頭作用力下產生顆粒重排，顆粒間空隙內氣體排出，形成具有一定強度和形狀的陶瓷素坯。通常壓制的初始階段致密化速率很高，初始階段的壓力通過顆粒間的接觸，使包覆有粘結劑的顆粒滑動和重排，當進一步施壓時，顆粒變形增加相互間的接觸面，減少顆粒間的氣孔，氣體在加壓過程中通過顆粒間遷移，很終通過模具間隙排出。

熱壓燒結：即在一定壓力下燒結陶瓷，可以使加熱燒結和加壓成型同時進行。無壓燒結：常壓燒結氮化鋁陶瓷一般溫度范圍為1600-2000℃，適當升高燒結溫度和延長保溫時間可以提高氮化鋁陶瓷的致密度。微波燒結：微波燒結也是一種快速燒結法，利用微波與介質的相互作用產生介電損耗而使坯體整體加熱的燒結方法。放電等離子燒結：融合等離子活化、熱壓、電阻加熱等技術，具有燒結速度快，晶粒尺寸均勻等特點。自蔓延燒結：即在超高壓氮氣下利用自蔓延高溫合成反應直接制備AlN陶瓷致密材料。但由于高溫燃燒反應下原料中的Al易熔融而阻礙氮氣向毛坯內部滲透， 難以得到致密度高的AlN陶瓷。以上5中燒結工藝中，熱壓燒結是目前制備高熱導率致密化AlN陶瓷的主要工藝。AIN陶瓷的金屬化性能較好，可替代有毒性的氧化鈹瓷在電子工業中較廣應用。

氮化鋁陶瓷的注射成型：排膠工藝，由于注射成型坯體中有機物含量較高，排膠過快會造成坯體開裂、起泡、分層和變形，因此，如何快速高效排膠成為注射成型的一大難點。排膠工藝包括熱排膠和溶劑排膠。起初主要采用熱排膠，簡單地把有機物燒除，這種方式能耗高、時間長。為了提高排膠效率，一些學者探索了溶劑排膠的工藝。由于粘結劑中石蠟占比重較大，溶劑排膠主要是將坯體中的石蠟溶解，其他粘結劑仍能維持坯體形狀。溶劑排膠結合熱工藝排膠可以縮短排膠時間。注射成型的工藝特點：可近凈尺寸成型各種復雜形狀，很少(或無需)進行機械加工；成型產品生坯密度均勻，且表面光潔度及強度高；成型產品燒結體性能優異且一致性好；易于實現機械化和自動化生產，生產效率高。氮化鋁陶瓷基板具有導熱效率高、力學性能好、耐腐蝕、電性能優、可焊接等特點。杭州單晶氧化鋁銷售公司

氮化鋁的熱導率主要由晶體缺陷和聲子自身對聲子散射控制。杭州單晶氧化鋁銷售公司

結晶氮化鋁：無色斜方品系結晶工業品為淡黃色或深黃色結晶。密度2. 398}!cm3。加熱到lUU℃分解釋放出氯化氫。溶于水、無水乙醇、，微溶于鹽酸，其水溶液呈酸性。易潮解，在濕空氣中水解生成氯化氫白色煙霧。由煤，堿石粉經沸騰焙燒，再經粉碎后與ir}酸反應.經澄清后，把清液濃縮，析出結晶，固液分離制得。主要用于情密鑄造模殼的硬化劑，木材防腐劑，造紙施膠沉淀劑，石汕1一業加氫裂化催化劑單體的原料。也用干羊毛的精制、染色。以及飲用水、含高氟水‘工業水的處理，含油污水凈化。杭州單晶氧化鋁銷售公司

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