配置堿性清洗液（如氫氧化鈉溶液）并打入膜組件，按照酸性清洗的類似操作流程進行循環清洗 30 - 60 分鐘，循環溫度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分鐘后排放堿性清洗液，排放和收集方式同酸性清洗液處理。再次用清水沖洗膜組件，沖洗時間約 30 - 45 分鐘，確保清洗液被徹底沖洗干凈，監測沖洗水的 pH 值和電導率，pH 值接近中性且電導率較低時沖洗完成。氧化劑清洗，當膜污染情況較為嚴重，經酸性和堿性清洗后仍未達到理想效果，尤其是懷疑有生物膜或頑固有機物污染時，進行氧化劑清洗。選擇合適的氧化劑清洗劑（如過氧化氫或次氯酸鈉溶液），將其打入膜組件進行循環清洗，循環時間 20 - 40 分鐘，循環過程中要注意控制氧化劑濃度，避免對膜造成過度氧化損傷。清洗后排放氧化劑清洗液，用清水沖洗膜組件，沖洗時間不少于 40 分鐘，同時監測沖洗水的相關指標，確保氧化劑被完全清洗干凈。超純水在文具制造中用于特殊墨水與涂料的配制。半導體超純水互惠互利

1. 反滲透膜的孔徑極小，一般在 0.1 - 1 納米之間，能夠有效截留大部分有機污染物。無論是大分子有機物，如蛋白質、多糖、微生物產生的胞外聚合物等，還是小分子有機物，如農藥、染料、石油類有機物、有機鹵化物等，都能被大量去除。例如，在工業廢水處理用于回用制備超純水時，對于廢水中的復雜有機污染物，反滲透法可以去除其中 90% 以上的有機成分，提高了水的純度。反滲透過程不僅對有機污染物有很好的去除效果，還能去除水中的溶解性固體（如鹽類）、膠體、細菌、病毒等雜質。這是因為半透膜的特性使得只有水分子能夠通過，而幾乎所有其他雜質都被截留。在超純水制備過程中，這一特性可以簡化處理流程，減少后續處理步驟的負擔。例如，在電子工業的超純水制備中，反滲透可以一次性去除水中的重金屬離子、微生物和有機雜質，為后續的離子交換和超濾等步驟提供較好的進水水質。簡介超純水合成技術超純水的生產需對原水進行預脫氯處理。

原理：紫外線（UV）照射可以使水中的有機污染物發生光解反應。特別是波長為 185nm 和 254nm 的紫外線具有較強的氧化能力。185nm 的紫外線可以產生羥基自由基（?OH），這是一種強氧化劑，能夠將有機污染物氧化分解為二氧化碳、水和小分子有機酸等。254nm 的紫外線可以直接破壞有機污染物的化學鍵，使其分解。應用：在超純水制備中，紫外線氧化通常與其他處理方法聯合使用。例如，在經過活性炭吸附或超濾后的水中，利用紫外線氧化進一步去除殘留的有機污染物。在實驗室小型超純水設備或一些對水質要求不是極高的場合，紫外線氧化可以作為一種有效的有機污染物去除手段。不過，紫外線氧化對于一些難降解的有機污染物效果可能不佳，而且需要消耗一定的電能來維持紫外線燈的照射。

清洗前準備，收集反滲透系統運行數據，包括進水壓力、產水壓力、產水量、脫鹽率等參數在一段時間內的變化曲線，以確定膜性能下降的程度和趨勢。對反滲透膜元件進行取樣分析，可采用掃描電子顯微鏡（SEM）觀察膜表面的污染物形態，通過傅里葉變換紅外光譜（FTIR）分析污染物的化學成分，從而確定主要的污染類型，如無機鹽垢、有機物污染、生物膜污染等。準備清洗設備與藥劑，清洗水箱：選用耐腐蝕、耐酸堿且與清洗液不發生反應的材質制成的水箱，容量根據膜組件數量和清洗液用量確定，一般要保證有足夠的空間容納清洗液并能進行循環操作，例如，對于一套處理量為 100m3/h 的反滲透系統，清洗水箱容量可選擇 5 - 10m3。清洗泵：泵的流量和揚程應滿足清洗要求，流量一般為膜組件正常運行流量的 1/3 - 1/2，揚程要能克服膜組件和管道的阻力并提供一定的循環動力，如選用流量為 30 - 50m3/h、揚程為 30 - 50m 的離心泵。超純水在消防器材制造中用于高精度部件清洗。

系統恢復與運行調整，根據清洗后膜性能測試結果，對反滲透系統進行必要的運行調整。如果產水量仍未達到預期，可適當調整進水壓力或濃水排放流量，但要注意不能超過膜組件的額定壓力和流量范圍。檢查和維護系統的預處理設備，如機械過濾器、活性炭過濾器等，確保預處理效果良好，防止再次快速污染反滲透膜。例如，檢查過濾器的濾芯是否需要更換，活性炭是否飽和等。記錄清洗過程和清洗后系統的運行數據，建立清洗檔案，為今后的清洗操作和系統維護提供參考依據。在整個清洗過程中，要嚴格遵守安全操作規程，操作人員應穿戴防護眼鏡、手套、防護服等防護用品，防止化學藥劑接觸皮膚和眼睛。同時，要密切關注清洗設備的運行情況，如有異常應及時停止清洗并進行排查處理。微生物指標：如果反滲透膜受到微生物污染，清洗后可以通過檢測水中的細菌、病毒、藻類等微生物指標來判斷清洗效果。例如，采用平板計數法檢測細菌菌落數，清洗后產水中的細菌菌落數應低于檢測方法的最低檢出限，或者至少比清洗前降低幾個數量級，如從清洗前的每毫升 100 個菌落降低到每毫升 10 個菌落以下。超濾膜的截留分子量選擇影響超純水的凈化效果。半導體超純水互惠互利

超純水在核能領域應用，需滿足嚴格放射性指標。半導體超純水互惠互利

分析化學行業 超純水是許多高精度分析儀器的必備用水，如高效液相色譜儀（HPLC）、氣相色譜儀（GC）、原子吸收光譜儀（AAS）等。在 HPLC 中，超純水用于配制流動相和樣品稀釋。如果水中含有雜質，可能會在色譜柱中產生峰的拖尾或鬼峰現象，影響分析結果的準確性。在 GC 中，超純水用于制備樣品提取物和清洗儀器部件。其高純度可以保證儀器的良好性能和分析結果的可靠性。在 AAS 中，超純水用于配制標準溶液和樣品溶液，避免水中的金屬離子對目標金屬元素檢測的影響，從而實現對極低濃度金屬元素的精確測定。半導體超純水互惠互利