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佛山數字光刻

來源: 發布時間:2023年07月15日

光刻技術是集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術。隨著半導體技術的發展,光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數量級(從毫米級到亞微米級),已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術;使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術。光刻技術是指在光照作用下,借助光致抗蝕劑(又名光刻膠)將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。其主要過程為:首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面,引起曝光區域的光刻膠發生化學反應;再通過顯影技術溶解去除曝光區域或未曝光區域的光刻膠(前者稱正性光刻膠,后者稱負性光刻膠),使掩膜版上的圖形被復制到光刻膠薄膜上;較后利用刻蝕技術將圖形轉移到基片上。光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對光敏感的混合液體。佛山數字光刻

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動態噴灑法:隨著硅片尺寸越來越大,靜態涂膠已經不能滿足較新的硅片加工需求。相對靜態旋轉法而言,動態噴灑法在光刻膠對硅片進行澆注的時刻就開始以低速旋轉幫助光刻膠進行較初的擴散。這種方法可以用較少量的光刻膠形成更均勻的光刻膠鋪展,較終以高速旋轉形成滿足厚薄與均勻度要求的光刻膠膜。集成電路的制程工藝水平按已由微米級、亞微米級、深亞微米級進入到納米級階段。集成電路線寬不斷縮小的趨勢,對包括光刻在內的半導體制程工藝提出了新的挑戰。佛山數字光刻光刻版材質主要是兩種,一個是石英材質一個是蘇打材質,石英材料的透光率會比蘇打的透光率要高。

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光刻膠旋轉速度,速度越快,厚度越薄;影響光刻膠均勻性的參數:旋轉加速度,加速越快越均勻;與旋轉加速的時間點有關。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關(因為不同級別的曝光波長對應不同的光刻膠種類和分辨率):I-line較厚,約0.7~3μm;KrF的厚度約0.4~0.9μm;ArF的厚度約0.2~0.5μm。軟烘方法:真空熱板,85~120C,30~60秒;目的:除去溶劑(4~7%);增強黏附性;釋放光刻膠膜內的應力;防止光刻膠玷污設備;邊緣光刻膠的去除:光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。

常用的光刻膠主要是兩種,正性光刻膠(positive photoresist)被曝光的部分會被顯影劑去除,負性光刻膠(negative photoresist)未被曝光的部分會被顯影劑去除。正性光刻膠主要應用于腐蝕和刻蝕工藝,而負膠工藝主要應用于剝離工藝(lift-off)。光刻是微納加工當中不可或缺的工藝,主要是起到圖形化轉移的作用。常規的光刻分為有掩膜光刻和無掩膜光刻。無掩膜光刻主要是電子束曝光和激光直寫光,有掩膜光刻主要是接觸式曝光、非接觸式曝光和stepper光刻。對于有掩膜光刻,首先需要設計光刻版,常用的設計軟件有CAD、L-edit等軟件。如今,全世界能夠生產光刻機的國家只有四個,中國成為了其中的一員。

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日本能把持光刻膠這么多年背后的深層次邏輯是什么?究其原因,主要是技術和市場兩大壁壘過高導致的。首先,光刻膠作為半導體產業的基礎材料,扮演著極其重要的角色,甚至可以和光刻機相媲美,但市場規模卻很小。2019年的全球光刻膠市場的規模才90億美元,不及一家大型IC設計企業的年營收,行業成長空間有限,自然進入的企業就少。另一方面,光刻膠又是一個具有極高技術壁壘的產業。由于不同的客戶會有不同的應用需求,同一個客戶也有不同的光刻應用需求。導致光刻膠的種類極其繁雜,必須通過調整光刻膠的配方,滿足差異化應用需求,這也是光刻膠制造商較中心的技術。接觸式曝光和非接觸式曝光的區別,在于曝光時掩模與晶片間相對關系是貼緊還是分開。佛山數字光刻

光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。佛山數字光刻

光聚合型光刻膠采用烯類單體,在光作用下生成自由基,進一步引發單體聚合,較后生成聚合物;光分解型光刻膠,采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,其經光照后,發生光分解反應,可以制成正性光刻膠;光交聯型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,形成一種不溶性的網狀結構,而起到抗蝕作用,可以制成負性光刻膠。動態噴灑法:隨著硅片尺寸越來越大,靜態涂膠已經不能滿足較新的硅片加工需求。廣東省科學院半導體研究所。佛山數字光刻

廣東省科學院半導體研究所是我國微納加工技術服務,真空鍍膜技術服務,紫外光刻技術服務,材料刻蝕技術服務專業化較早的政府機構之一,廣東省半導體所是我國電子元器件技術的研究和標準制定的重要參與者和貢獻者。廣東省半導體所以微納加工技術服務,真空鍍膜技術服務,紫外光刻技術服務,材料刻蝕技術服務為主業,服務于電子元器件等領域,為全國客戶提供先進微納加工技術服務,真空鍍膜技術服務,紫外光刻技術服務,材料刻蝕技術服務。多年來,已經為我國電子元器件行業生產、經濟等的發展做出了重要貢獻。

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