陶瓷金屬化技術起源于20世紀初期的德國，1935年德國西門子公司Vatter采用陶瓷金屬化技術并將產品成功實際應用到真空電子器件中，1956年Mo-Mn法誕生，此法適用于電子工業中的氧化鋁陶瓷與金屬連接。對于如今，大功率器件逐漸發展，陶瓷基板又因其優良的性能成為當今電子器件基板及封裝材料的主流，因此，實現陶瓷與金屬之間的可靠連接是推進陶瓷材料應用的關鍵。目前常用陶瓷基板制作工藝有：(1)直接覆銅法、(2)活性金屬釬焊法、(3)直接電鍍法。陶瓷金屬化想出眾，依托同遠，先進理念塑造好品質。肇慶真空陶瓷金屬化種類

  陶瓷金屬化是一種將陶瓷表面涂覆金屬層的技術，也稱為陶瓷金屬化涂層技術。該技術可以提高陶瓷的機械性能、耐磨性、耐腐蝕性和導電性等特性，使其在工業、航空航天、醫療和電子等領域得到廣泛應用。陶瓷金屬化的涂層通常由金屬粉末和陶瓷基體組成。金屬粉末可以是銅、鋁、鎳、鉻、鈦等金屬，通過熱噴涂、電鍍、化學氣相沉積等方法將金屬粉末涂覆在陶瓷表面上。涂層的厚度通常在幾微米到幾百微米之間，可以根據需要進行調整。陶瓷金屬化涂層的優點在于其具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蝕性和高導電性等特性。這些特性使得陶瓷金屬化涂層在工業領域中得到廣泛應用。例如，在航空航天領域，陶瓷金屬化涂層可以用于制造發動機部件、渦輪葉片和燃燒室等高溫部件，以提高其耐磨性和耐腐蝕性。在醫療領域，陶瓷金屬化涂層可以用于制造人工關節和牙科修復材料等醫療器械，以提高其機械性能和生物相容性。在電子領域，陶瓷金屬化涂層可以用于制造電子元件和電路板等電子產品，以提高其導電性和耐腐蝕性?？傊?，陶瓷金屬化涂層技術是一種重要的表面處理技術，可以為陶瓷材料賦予新的特性和功能，拓展其應用范圍。云浮鍍鎳陶瓷金屬化焊接陶瓷金屬化使陶瓷具備更多的功能性。

經真空陶瓷金屬化處理后的陶瓷制品，展現出令人驚嘆的金屬與陶瓷間附著力。在電子封裝領域，對于高頻微波器件，陶瓷基片金屬化后要與金屬引腳、外殼緊密相連。通過優化工藝，金屬膜層能深入陶瓷表面微觀孔隙，形成類似 “榫卯” 的機械嵌合，化學鍵合作用也同步增強。這種強度高的附著力確保了信號傳輸的穩定性，即使在溫度變化、機械振動環境下，金屬層也不會剝落、起皮，有效避免了因封裝失效引發的電氣故障，像衛星通信設備中的陶瓷基濾波器，憑借穩定的金屬化附著力，在太空嚴苛環境下長期可靠服役。

陶瓷金屬化法之直接覆銅法利用高溫熔融擴散工藝將陶瓷基板與高純無氧銅覆接到一起，制成的基板叫DBC。常用的陶瓷材料有：氧化鋁、氮化鋁。所形成的金屬層導熱性好、機械性能優良、絕緣性及熱循環能力高、附著強度高、便于刻蝕，大電流載流能力?；钚越饘兮F焊法通過在釬焊合金中加入活性元素如：Ti、Sc、Zr、Cr等，在熱和壓力的作用下將金屬與陶瓷連接起來。其中活性元素的作用是使陶瓷與金屬形成反應產物，并提高潤濕性、粘合性和附著性。制成的基板叫AMB板，常用的陶瓷材料有：氮化鋁、氮化硅。陶瓷金屬化應用于電子封裝領域。

  陶瓷金屬化基板，顯然尺寸要比絕緣材料的基板穩定得多，鋁基印制板、鋁夾芯板，從30℃加熱至140~150℃，尺寸就會變化為。利用陶瓷金屬化電路板中的優異導熱能力、良好的機械加工性能及強度、良好的電磁遮罩性能、良好的磁力性能。產品設計上遵循半導體導熱機理，因此在不僅導熱金屬電路板{金屬pcb}、鋁基板、銅基板具有良好的導熱、散熱性。由于很多雙面板、多層板密度高、功率大、熱量散發難，常規的印制板基材如FR4、CEM3都是熱的不良導體，層間絕緣、熱量散發不出去。電子設備局部發熱不排除，導致電子元器件高溫失效，而陶瓷金屬化可以解決這一散熱問題。因此，高分子基板和陶瓷金屬化基板使用受到很大限制，而陶瓷材料本身具有熱導率高、耐熱性好、高絕緣、與芯片材料相匹配等性能。是非常適合作為功率器件LED封裝陶瓷基板，如今已廣泛應用在半導體照明、激光與光通信、航空航天、汽車電子等領域。陶瓷金屬化有利于實現電子產品的小型化。陽江氧化鋁陶瓷金屬化電鍍

同遠，深耕陶瓷金屬化，以匠心雕琢，讓金屬與陶瓷完美融合。肇慶真空陶瓷金屬化種類

隨著電子設備向微型化、集成化發展，真空陶瓷金屬化扮演關鍵角色。在手機射頻前端模塊，多層陶瓷與金屬化層交替堆疊，構建超小型、高性能濾波器、耦合器等元件。金屬化實現層間電氣連接與信號屏蔽，使各功能單元緊密集成，縮小整體體積。同時，準確控制金屬化工藝確保每層陶瓷性能穩定，避免因加工誤差累積導致信號串擾、損耗增加。類似地，物聯網傳感器節點，將感知、處理、通信功能集成于微小陶瓷封裝內，真空陶瓷金屬化保障內部電路互聯互通，推動萬物互聯時代邁向更高精度、更低功耗發展階段。肇慶真空陶瓷金屬化種類