微流控技術是以微管道為網絡連接微泵、微閥、微儲液器、微電極、微檢測元件等具有光、電和流體輸送功能的元器件，較大限度地把采樣、稀釋、加試劑、反應、分離、檢測等分析功能集成在芯片上的微全分析系統。目前，微流控芯片的大小約幾個平方厘米，微管道寬度和深度(高度)為微米和亞微米級。微流控芯片的加工技術起源于半導體及集成電路芯片的微細加工，但它又不同于以硅材料二維和淺深度加工為主的集成電路芯片加工技術。近來，作為微流控芯片基礎的芯片材料和加工技術的研究已受到許多發達國家的重視。單晶圓清洗取代批量清洗是先進制程的主流，單晶圓清洗通常采用單晶圓清洗設備。四川功率器件半導體器件加工

半導體指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體在集成電路、消費電子、通信系統、光伏發電、照明、大功率電源轉換等領域都有應用，如二極管就是采用半導體制作的器件。無論從科技或是經濟發展的角度來看，半導體的重要性都是非常巨大的。大部分的電子產品，如計算機、移動電話或是數字錄音機當中的中心單元都和半導體有著極為密切的關聯。常見的半導體材料有硅、鍺、砷化鎵等，硅是各種半導體材料應用中較具有影響力的一種。四川功率器件半導體器件加工熱處理的第三種用途是通過加熱在晶圓表面的光刻膠將溶劑蒸發掉，從而得到精確的圖形。

二極管就是由一個PN結加上相應的電極引線及管殼封裝而成的。采用不同的摻雜工藝，通過擴散作用，將P型半導體與N型半導體制作在同一塊半導體（通常是硅或鍺）基片上，在它們的交界面就形成空間電荷區稱為PN結。各種二極管的符號由P區引出的電極稱為陽極，N區引出的電極稱為陰極。因為PN結的單向導電性，二極管導通時電流方向是由陽極通過管子內部流向陰極。二極管的電路符號：二極管有兩個電極，由P區引出的電極是正極，又叫陽極；由N區引出的電極是負極，又叫陰極。三角箭頭方向表示正向電流的方向，二極管的文字符號用VD表示。

熱處理是簡單地將晶圓加熱和冷卻來達到特定結果的工藝。在熱處理的過程中，晶圓上沒有增加或減去任何物質，另外會有一些污染物和水汽從晶圓上蒸發。在離子注入工藝后會有一步重要的熱處理。摻雜原子的注入所造成的晶圓損傷會被熱處理修復，這稱為退火，溫度一般在1000℃左右。另外，金屬導線在晶圓上制成后會有一步熱處理。這些導線在電路的各個器件之間承載電流。為了確保良好的導電性，金屬會在450℃熱處理后與晶圓表面緊密熔合。熱處理的第三種用途是通過加熱在晶圓表面的光刻膠將溶劑蒸發掉，從而得到精確的圖形。用硅片制造晶片主要是制造晶圓上嵌入電子元件(如電晶體、電容、邏輯閘等)的電路。

微機電系統是微電路和微機械按功能要求在芯片上的集成，尺寸通常在毫米或微米級，自八十年代中后期崛起以來發展極其迅速，被認為是繼微電子之后又一個對國民經濟和軍務具有重大影響的技術領域，將成為21世紀新的國民經濟增長點和提高軍務能力的重要技術途徑。微機電系統的優點是：體積小、重量輕、功耗低、耐用性好、價格低廉、性能穩定等。微機電系統的出現和發展是科學創新思維的結果，使微觀尺度制造技術的演進與**。微機電系統是當前交叉學科的重要研究領域，涉及電子工程、材料工程、機械工程、信息工程等多項科學技術工程，將是未來國民經濟和軍務科研領域的新增長點。刻蝕是用化學或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程。四川功率器件半導體器件加工

芯片封裝是利用陶瓷或者塑料封裝晶粒及配線形成集成電路。四川功率器件半導體器件加工

在MOS場效應管的制作工藝中，多晶硅是作為電極材料（柵極）用的，用多晶硅構成電阻的結構。它的薄層電阻值一般為30~200歐姆/方。當用多晶硅作為大阻值電阻時，可另外再加上一次光刻，用離子注入較小劑量來得到，其阻值可達10千歐/方。MOS管電阻。由于多晶硅下面有厚的氧化層與電路隔離，其寄生電容大幅度減小，但多晶硅電阻的薄層電阻大小，除與離子注入劑量有關外，還與多晶硅的厚度，多晶硅淀積質量等因素有關，因此，用于做精密電阻還是困難的。四川功率器件半導體器件加工

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