硅膠 初用于單晶硅晶體拋光，那是因為所有的缺陷必須在生長前消除。硅膠是沒有固定形狀的，溶液基本的PH值約9.5。硅的顆粒，實際上非常接近球形，由于化學和機械過程的雙重作用，所以其相應的拋光速度較慢。用硅膠研磨介質比其它研磨介質更容易獲得沒有缺陷的表面( 終拋光)。腐蝕劑與硅膠拋光后的表面有不同反應。例如，一種腐蝕劑對氧化鋁拋光后的表面產生了晶粒反差腐蝕，也許對硅膠拋光后的表面就變成顯示晶粒和孿晶晶界的腐蝕。對于日常檢查，較細的金剛石研磨劑，1微米金剛石懸浮拋光液就足夠 制備使用了。傳統的水基的氧化鋁粉和混合液，例如氧化鋁粉和懸浮液被用于中絨拋光布上的 的拋光。鐵基材料及其合金的制備用金剛石懸浮拋光液3微米配真絲綢！湖南拋光液有哪些規格

    微電子材料所指的材料范圍很廣，這是因為微電子設備很復雜，包含大量的單個組件。例如，微處理器的失效分析可能會要求金相工作者正好從多層鍍層(例如氧化物、聚合物、易延展的金屬如銅或鋁、難熔金屬如鎢或鈦-鎢)的硅片的橫截面切割。另外，包裝材料也可能含有機械性能各異的材料如I氧化鋁或焊料。這些焊料有可能含有高達97%的鉛。可以想象將這么多性能各異的材料整合到一個單一的設備里，并開發出一個適用于所有材料的制備程序的可能性就不存在，所以我們必須將注意力集中在幾種材料上，去開發我們所要關注材料的試樣制備程序。硅對硅膠的化學機械拋光反應良好，但與氧化鋁的反應較差。氧化鋁懸浮液可以用于終的拋光，這就又返回到以前提到的試樣制備理論了。當硅模與鉛框材料，例如鍍鎳的銅，鉛框和模具材料被制備時。此時，我們不用考慮硅的表面光潔度，相反我們要確保鎳沒有出現掛灰以利于辨別鉛框材料的真實組織。 湖南拋光液有哪些規格賦耘檢測技術金剛石懸浮拋光液0.25微米，1微米，3微米，6微米，9微米，粒度齊全！

鐵基材料及其合金的制備 應采用現 代的試樣制備方法。這對邊緣保護 及夾雜物的鑒定來講， 非常理想， 尤 其當全自動制樣設備使用時的效果 為明顯。 隨后推薦的制備程序適用于大多數的鐵基材 料及其合金這樣的試樣制備方法對鑄鐵，包括石墨鑄 鐵在內均適用。 打磨可以打三到四道，240# ，800# ，1500# ，2000#，拋光可以拋光兩道，一個粗拋一個精拋，粗拋用呢絨，精拋光用阻尼布，由于含有大 量硅及潛在的污染， 所以在 終的拋光過程中 使用氧化鋁懸浮液進行拋光。

    鈷和鈷合金要比鎳和鎳合金難制備。鈷是一種非常硬的金屬，六方密排晶格結構，由于機械孿晶而敏感于變形損傷。研磨和拋光速率比鎳、銅或鐵都要低。鈷和鈷合金的制備類似難熔金屬。與其它金屬和合金相比，雖然鈷是六方密排晶格結構，但交叉偏振光不是非常有用的檢查方法。下面介紹的是鈷和鈷合金的制備方法。也許需要兩步的SiC砂紙將試樣磨平。如果切割表面質量較好，就從320(P400)粒度砂紙開始。鈷和鈷合金要比鋼難切不是因為硬度高。侵蝕拋光沒有報道，但化學拋光已經在機械拋光之后采用了。推薦了兩種化學拋光溶液:等量的醋酸和硝酸(溶劑)或40mL乳酸+30mL鹽酸+5mL硝酸(溶劑)。許多鈷基合金都可以不需要任何化學拋光，并且只采用上面所講的制備方法就獲得了理想的表面。對日常工作來說，1μm金剛石拋光步驟就可以省掉了。 拋光鈦合金用幾微米金剛石懸浮拋光液？

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    鎳的金相制樣制鎳和鎳合金是面心立方晶格結構，制備方法基本上和奧氏體不銹鋼一樣。純鎳比鎳合金要難制備。Ni-Fe磁性合金，要制備無劃痕的表面非常困難，除非采用震動拋光。Monel(Ni-Cu)合金和高抗蝕(Ni-Cr-Fe)合金要比鎳基高溫合金難制備多了。固溶退火鎳基高溫合金要比沉淀硬化鎳基高溫合金難制備。下面介紹的制備程序非常適合于鎳基高溫合金(Fe-Ni基高溫合金)和高抗蝕Ni-Cr-Fe合金，對純鎳、Ni-Cu和Ni-Fe合金，建議使用五步制備程序，如下所述。用240(P280)或320(P400)粒度的SiC砂紙，具體通常，對這些合金，不用侵蝕拋光劑消除拋光劃痕或殘留缺陷。如果問題存在且很難獲得理想的無劃痕或和變形缺陷的表面，一個與拋光步驟相同研磨介質的短時間的震動拋光將有很大幫助。氧化鋁配合金相拋光布阻尼布對較純的鎳的效果要比硅膠好的多。 湖南拋光液有哪些規格

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