光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位，其成本約占IC制造工藝的20-30%，光刻膠去膠效果太弱影響生產效率，去膠效果太強容易造成基底損傷，影響整個產品的成品率。傳統主流去膠方法采用濕法去膠，成本低效率高，但隨著技術不斷選代更新，越來越多IC制造商開始采用干法式去膠，干法式去膠工藝不同于傳統的濕法式去膠工藝，它不需要浸泡化學溶劑，也不用烘干，去膠過程更容易控制，避免過多算上基底，提高產品成品率。干法式去膠又被稱為等離子去膠，其原理同等離子清洗類似，主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環境中發生反應來去除光刻膠，由于光刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發生化學反應，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過程:主要是物理作用對清洗物件進行轟擊達到去膠的目的，主要的氣體為氧氣、氬氣等，通過射頻產生氧離子，轟擊清洗物件，以獲得表面光滑的較大化，并且結果是親水性增大。等離子體（plasma）是由自由電子和帶電離子為主要成分的物資狀態，被稱為物資的第四態。北京寬幅等離子清洗機品牌

在線式真空等離子清洗機的優勢：??載臺升降可自由按料盒每層的間距設定；??載臺實現寬度定位，電機根據程序參數進行料盒寬度調節；??推料舍片具有預防卡料及檢測功能，根據產品寬度切換配方進行傳送；??同時每次清洗4片，雙工位腔體平臺交替，實現清洗與上下料的同步進行，減少等待時間，提高產能；??一體式電極板設計能在制程腔體產生均一密度等離子體。在線片式真空等離子清洗機產品原理：通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、自由活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質進行氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質，從而優化材料表面性能，實現清潔、改性、刻蝕等目的。吉林半導體封裝等離子清洗機工作原理是什么真空等離子清洗設備可以清洗各種材料的物體表面，包括金屬、塑料、陶瓷、玻璃等。

等離子清洗機在半導體封裝中的應用具有明顯的優勢。首先，等離子清洗能夠提供高度均勻的清潔效果，確保芯片表面的每一處都能得到充分的處理。這對于提高封裝的可靠性和性能至關重要。其次，等離子清洗機具有高度的可控性和可重復性。通過精確控制等離子體的參數，如氣體種類、流量、壓力和射頻功率等，可以實現對清洗過程的精確控制，從而確保每次清洗都能獲得一致的結果。此外，等離子清洗機還能夠在不損傷芯片表面的情況下有效去除污染物。相較于機械清洗或化學清洗，等離子清洗能夠避免對芯片表面造成劃痕或引入新的污染物，從而保護芯片的完整性和性能。等離子清洗機還具有高效率和低成本的優點。它能夠在短時間內完成大面積的清洗任務，提高生產效率；同時，由于不需要使用化學試劑，因此也降低了生產成本。

真空等離子清洗機是一種應用于表面處理領域的高級清洗設備，其通過利用等離子體在真空環境中產生的化學反應和物理效應，實現對材料表面的清洗和改性。真空等離子清洗機的工作原理真空等離子清洗機是在真空環境中工作的設備，其主要由真空室、氣體供應系統、等離子源、抽氣系統和控制系統組成。具體工作原理如下：建立真空：首先通過抽氣系統將真空室內的氣體抽空，形成高真空環境，以便等離子體的產生和物質的處理。供氣系統：在真空室內，氣體供應系統提供適當的氣體，如氧氣、氮氣或其他活性氣體。等離子體產生：通過高頻電源提供電場能量，使氣體分子發生電離和激發，形成等離子體。等離子體中含有大量的正離子、電子和自由基等活性物質。清洗過程：等離子體中的活性物質與待處理的材料表面發生化學反應和物理效應，如氧化、還原、離子轟擊等，從而實現對表面污染物、有機物和氧化層的清洗和去除。穩定性控制：通過控制系統調節工藝參數，如功率、頻率、氣體流量和清洗時間等，以確保清洗效果的穩定和可控。等離子表面處理機可以用于印刷或粘合前處理，可以提高產品的可靠性和一致性。

等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態3種狀態存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態存在，如太陽表面的物質和地球大氣中電離層中的物質。這類物質所處的狀態稱為等離子體狀態，又稱為物質的第四態。等離子體中存在下列物質：處于高速運動狀態的電子;處于jihuo狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子；分子解離反應過程中生成的紫外線;未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態。在噴涂UV絕緣材料之前，通過等離子表面處理可以粗化電芯鋁殼表面，提高其表面附著力。北京寬幅等離子清洗機品牌

對于由不同材料組成的內飾件，等離子處理可以促進這些材料之間的有效粘接和結合。北京寬幅等離子清洗機品牌

等離子清洗機與傳統濕法清洗相比，等離子清洗機優勢主要體現在以下幾個方面：1.適用材料可以處理各種各樣的材質，無論是金屬、塑料、橡膠、半導體、氧化物，還是高分子材料都可以使用等離子清洗技術來處理。2.被清洗工件經過離子干燥處理后，不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率；3.清洗后的工件表面基本沒有殘留物，并且可以通過搭配和選擇多種等離子清洗類型達到不同的清洗目的；4.改善材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應用中都是非常重要的。5.由于等離子清洗的方向性不強，因此不需要過多考慮被清洗工件的形狀，強力適用于帶有凹陷、空洞、褶皺等復雜結構的工件。北京寬幅等離子清洗機品牌