蒙脫石散及雜質的鑒定引言蒙脫石散常見的用于用于成人及兒童急、慢性腹瀉的藥物。蒙脫石散的主要成分為層狀結構的粘土礦物蒙脫石。根據(jù)中國藥典，蒙脫石散的鑒別和雜質含量的分析的主要手段為XRD。不論在何種應用場合，它都是值得您選擇的探測器：高的計數(shù)率、動態(tài)范圍和能量分辨率。布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976c）整個角度范圍內的準直保證。D8衍射儀系列平臺的D8ADVANCE，是所有X射線粉末衍射和散射應用的理想之選，如：典型的X射線粉末衍射（XRD）對分布函數(shù)（PDF）分析小角X射線散射（SAXS）和廣角X射線散射（WAXS）在DIFFRAC.TEXTURE中，使用球諧函數(shù)和分量方法，生成極圖、取向分布函數(shù)（ODF）和體積定量分析。廣東全新XRD衍射儀配件

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測試，X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米，這遠遠大于薄膜的厚度，導致薄膜的信號會受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無法利用整個樣品的體積，衍射信號弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明：GID需要硬件配置；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。廣東全新XRD衍射儀配件這種X射線源可提供高亮度光束，對mm大小的樣品研究，或使用μm大小光束進行微區(qū)X射線衍射研究的理想選擇。

X射線衍射（XRD）和反射率是對薄層結構樣品進行無損表征的重要方法。D8DISCOVER和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進行薄膜分析：掠入射衍射（GID）：晶相表面靈敏識別及結構性質測定，包括微晶尺寸和應變。X射線反射率測量（XRR）：用于提取從簡單的基底到高度復雜的超晶格結構等多層樣品的厚度、材料密度和界面結構信息。高分辨率X射線衍射（HRXRD）：用于分析外延生長結構：層厚度、應變、弛豫、鑲嵌、混合晶體的成分分析。應力和織構（擇優(yōu)取向）分析。

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進一步提供了光束調節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質量、殘余應力、織構分析、厚度測定以及組分與應變分析。在對薄膜和涂層進行分析時，著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜）。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進行以下高質量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。XRD可研究材料的結構和物理特性，是 重要的材料研究工具之一。

對分布函數(shù)分析對分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術，它基于Bragg衍射以及漫散射（“總散射”），提供無序材料的結構信息。其中，您可以通過Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結構的信息（即長程有序），通過漫散射，表征其局部結構（即短程有序）。就分析速度、數(shù)據(jù)質量以及對非晶、弱晶型、納米晶或納米結構材料的分析結果而言，D8ADVANCE和TOPAS軟件是目前市面上性能較好的PDF分析解決方案：相鑒定結構測定和精修納米粒度和形狀。支持全新技術進行定制，包括高性能X射線源、定制版光學器件、定制版樣品臺和多模式探測器。廣東全新XRD衍射儀配件

孔板和沉積樣品在反射和透射中的高通量篩選。廣東全新XRD衍射儀配件

API多晶型分析引言2015版藥典附錄新增“9105多晶型藥品的質量控制技術和方法指導原則”：指出固體藥物及其制劑中粗在多晶型現(xiàn)象隨時，應使用“優(yōu)勢藥物晶型物質狀態(tài)“為藥物原料及其制劑晶型，以保證藥品臨床有效性、安全性與質量可控性。說明目前藥物行業(yè)對晶型的重視。晶型，特別是API晶型對藥物的功能有直接關心，同一API的不同晶型在溶解度、熔點、溶出度、生物有效性等方便可能會有不同。而表征API晶型的有效手段之一就是XRPD。廣東全新XRD衍射儀配件