廣東省科學院半導體研究所
未來材料刻蝕技術的發展將呈現出多元化、高效化和智能化的趨勢。隨著納米技術的不斷發展和新型半導體材料的不斷涌現,對材料刻蝕技術的要求...
感應耦合等離子刻蝕(ICP)技術是一種先進的材料加工手段,普遍應用于半導體制造、微納加工等領域。該技術利用高頻電磁場激發產生高密度...
光源的選擇對光刻效果具有至關重要的影響。光刻機作為半導體制造中的能耗大戶,其光源的能效也是需要考慮的重要因素。選擇能效較高的光源可...
對準與校準是光刻過程中確保圖形精度的關鍵步驟。現代光刻機通常配備先進的對準和校準系統,能夠在拼接過程中進行精確調整。通過定期校準系...
氮化鎵(GaN)材料刻蝕技術是GaN基器件制造中的一項關鍵技術。隨著GaN材料在功率電子器件、微波器件等領域的普遍應用,對GaN材...