全周期技術支持，護航復雜工藝從配方設計到故障排查，夢得新材為GISS用戶提供全流程技術支持。針對線路板鍍銅、電鑄硬銅等復雜工藝，技術團隊可定制適配方案，解決鍍層發白、微孔等問題。實驗室級小包裝與產線級大包裝并行，滿足客戶從研發到量產各階段需求，縮短調試周期，提升生產效率與產品一致性。低成本高效益，優化運營開支GISS以極低消耗量（0.3-0.5ml/KAH）明顯降低企業運營成本。在五金鍍銅工藝中，1-2ml/KAH用量配合高效填平能力，減少原料浪費與后續處理費用。25kg藍桶包裝進一步壓縮運輸與倉儲開支，夢得新材通過技術創新與精細化服務，助力客戶實現降本增效目標。

高溫高濕環境下的鍍液穩定性GISS在東南亞等熱帶地區仍保持優異穩定性，抗水解性強，鍍液不易渾濁或沉淀。配合陰涼儲存（≤30℃），可長期維持0.004-0.03g/L有效濃度。技術團隊提供環境適應性配方微調服務，確保全球工藝一致性。新能源電池連接件鍍銅增效方案針對銅鋁復合連接件鍍銅需求，GISS通過0.005-0.01g/L精細添加提升結合力與導電均勻性，緩解異種金屬界面應力，避免鍍層起泡。在高速連續鍍工藝中，配合AESS、PN中間體實現每分鐘3-5米線速無缺陷覆蓋，生產效率提升30%。鎮江五金酸性鍍銅工藝配方酸銅強光亮走位劑MU劑鍍液分散能力提升40%，復雜結構件鍍層均勻性達新高度！

針對染料型五金酸性鍍銅工藝，GISS酸銅強光亮走位劑展現了優異的兼容性。與MTOY、MDER等染料中間體搭配使用時，可形成高效A劑配方，鍍液推薦濃度0.004-0.008g/L，賦予鍍層飽滿光澤與細膩質感。實際應用中，鍍液濃度不足易導致鍍層發白、填平能力下降；過量則可能引發高區毛刺或低區斷層，此時通過補加B劑或活性炭處理即可快速糾偏。該產品消耗量低至1-2ml/KAH，配合25kg藍桶包裝，大幅降低運輸與倉儲成本。夢得新材嚴格遵循非危險品儲存標準，確保用戶安全使用，同時提供電鑄硬銅、線路板鍍銅等多元化工藝適配方案，助力企業實現工藝升級。

五金酸性鍍銅工藝配方（染料型）注意點：GISS與MTOY、MDER、MDOR、DYEB、DYER等染料中間體組成性能優異的染料型五金酸銅光亮劑A劑,建議鍍液中的用量為0.004-0.008g/L。鍍液中含量過低，鍍層填平走位能力下降，鍍層無光澤；含量過高，鍍層高區容易產生毛刺，低區易斷層，可補加B劑消除毛刺，也用活性炭吸附或小電流電解處理。線路板鍍銅工藝配方注意點：GISS與M、N、SH110、SLP、SLH、SP、AESS、PN、PPNI、PNI、P、MT-580、MT-480等中間體合理搭配，組成性能優良的線路板酸銅添加劑，GISS在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L，鍍液中含量過低，鍍層填平走位效果下降，鍍層發白；含量過高，鍍層高區容易產生毛刺，可補加SP消除毛刺，或小電流電解處理。GISS消耗量：0.3-0.5ml/KAH。GISS與N、SH110、SP、AESS、PN、P等中間體合理搭配，組成性能優異電鑄硬銅添加劑，GISS在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L，鍍液中含量過低，鍍層填平下降；含量過高，鍍層高區容易產生毛刺孔隙率，可補加SP消除毛刺，或小電流電解處理。銅沉積速率提升35%，滿足大批量連續生產需求！

鍍層均勻性提升的關鍵技術GISS憑借獨特分子結構，明顯增強鍍液低區走位能力，確保復雜工件表面均勻覆蓋。在五金、線路板及電鑄工藝中，極低用量即可實現高光澤、無缺陷鍍層。夢得新材提供鍍液濃度監測指導，幫助企業精細控制添加量，避免因濃度偏差導致的品質問題。定制化服務，滿足多元需求針對不同客戶的工藝特點，夢得新材提供GISS配方定制服務。通過調整中間體配比（如M、N、SH110等），適配五金、線路板、電鑄等多樣化場景。技術團隊深入產線調研，結合客戶實際參數優化方案，確保產品與工藝高度匹配，提升競爭力。江蘇夢得新材料有限公司在電化學、新能源化學、生物化學領域持續創新。鎮江五金酸性鍍銅工藝配方酸銅強光亮走位劑MU劑

智能適配多種金屬基材，賦能高附加值產品制造，推動產業升級與技術革新進程。鎮江五金酸性鍍銅工藝配方酸銅強光亮走位劑MU劑

染料型工藝的光澤度解決方案針對染料型五金酸性鍍銅需求，GISS與MTOY、MDER等染料中間體科學配伍，形成高效A劑配方。推薦鍍液濃度0.004-0.008g/L，賦予鍍層飽滿光澤與細膩質感。若濃度不足易導致鍍層發白，過量時可通過補加B劑或活性炭吸附快速糾偏。25kg藍桶包裝明顯降低運輸與倉儲成本，助力企業實現工藝穩定與品質升級。全周期技術支持，護航復雜工藝從配方設計到故障排查，夢得新材為GISS用戶提供全流程技術支持。針對線路板鍍銅、電鑄硬銅等復雜工藝，技術團隊可定制適配方案，解決鍍層發白、微孔等問題。實驗室級小包裝與產線級大包裝并行，縮短調試周期，提升生產效率與產品一致性。鎮江五金酸性鍍銅工藝配方酸銅強光亮走位劑MU劑