負的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征，上述氧化物膜推薦包含sio2，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序，能夠使上述氮化物膜去除工序中發生的副反應氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化。本發明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑，在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時，能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照圖2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照圖3)的發生**少化。因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良在添加劑的防蝕能力強于適宜水平時發生，氧化物膜不良在添加劑的防蝕能力弱于適宜水平時發生。以下，對于本發明的蝕刻液組合物中所包含的磷酸、作為添加劑的硅烷(silane)系偶聯劑以及進行更詳細的說明。(a)磷酸本發明的蝕刻液組合物中所包含的上述磷酸(phosphoricacid)作為主氧化劑可以在使氮化物膜氧化時使用。相對于組合物總重量，上述磷酸的含量為50～95重量％，推薦為80～90重量％。在上述磷酸的含量處于上述含量范圍內的情況下。如何挑選一款適合公司的蝕刻液？合肥銀蝕刻液蝕刻液費用

    etchingamount)的相互關系的圖表。具體實施方式本發明人確認了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數值時能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化，從而完成了本發明。本發明包括選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*將氮化物膜選擇性去除的能力優異的添加劑的方法、由此選擇的添加劑、包含上述添加劑的蝕刻液組合物以及利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。本發明中，蝕刻對象膜可以為氮化物膜，保護對象膜可以為氧化物膜。此外，本發明的上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯劑。<蝕刻液組合物>具體而言，本發明可以包含磷酸、添加劑和水，上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯劑。本發明的上述添加劑的特征在于，使上述添加劑的反應位點(activesite)的數量除以上述添加劑的水解(hydrolysis)了的形態的分子量之后乘以(參照以下數學式)滿足。本發明中，各添加劑的反應位點(activesite)的數量和添加劑的水解(hydrolysis)了的形態的分子量的例子示于表3中。此外，由此計算的各添加劑的aeff值和與此有關的蝕刻程度的例示示于表2中。參照上述結果，可以確認到上述添加劑的aeff值推薦滿足。江蘇天馬用的蝕刻液蝕刻液溶劑歡迎詢價，蘇州博洋化學股份有限公司。

    該擋液板結構10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13，其主要特征在于：該第二擋板12具有復數個貫穿該第二擋板12且錯位設置的宣泄孔121。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設置，且該第二擋板12與該第三擋板13呈正交設置，以使該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13圍設成一凹槽的態樣，在一實施例中，該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13可以為一體成形，其中該第二擋板12的長度h介于10cm至15cm之間，而該等開設于該第二擋板12上的宣泄孔121可呈千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列的態樣，且該宣泄孔121可為直通孔或斜錐孔等其中的一種態樣或兩者的混合；在本實用新型其一較佳實施例中，開設于該第二擋板12上的宣泄孔121呈千鳥排列的直通孔態樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離(例如：圖3中所示的w)，其中該宣泄孔121的一孔徑a0比較好小于3mm，以使該宣泄孔121的孔洞內產生毛細現象，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現時，則該水滴不至于經由該宣泄孔121落至下表面，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道，以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。此外，請一并參閱圖4圖5所示。

    近年來，oled顯示器廣泛應用于手機和平板顯示。金屬銀以優異的電導率和載流子遷移率被廣泛應用于oled顯示器的陽極布線(ito/ag/ito)結構中。為了對此進行蝕刻，目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀，但在實際使用過程中仍會存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問題。4.本發明所要解決的技術問題在于如何解決現有的銀蝕刻液在使用過程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問題。5.本發明通過以下技術手段實現解決上述技術問題的：6.一種銀蝕刻液組合物，其成分由質量占比為40-60％磷酸、2-10％硝酸、％有機酸、％硝酸鹽、％含氮元素有機物、其余為水組成。 銅蝕刻液哪里可以買到；

    本發明涉及一種用來在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術：以往，在蝕刻鈦時一直使用含有氫氟酸或過氧化氫的蝕刻液。例如專利文獻1中提出了一種鈦的蝕刻液，該鈦的蝕刻液是用來在銅或鋁的存在下蝕刻鈦，并且該蝕刻液的特征在于：利用由10重量％至40重量％的過氧化氫、％至5重量％的磷酸、％至％的膦酸系化合物及氨所構成的水溶液將pH值調整為7至9。但是，含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題，含有過氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩定性的問題。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本特許第4471094號說明書。技術實現要素：發明所要解決的問題本發明是鑒于所述實際情況而成，其目的在于提供一種蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法，所述蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦，而且毒性低，保存穩定性優異。解決問題的技術手段本發明的蝕刻液是為了在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦而使用，并且含有：選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸；以及選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機硫化合物。所述硫酮系化合物推薦為選自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。蝕刻不同金屬用到的蝕刻液一樣嗎？廣州BOE蝕刻液蝕刻液配方技術

蝕刻液的配方是什么？合肥銀蝕刻液蝕刻液費用

    本實用新型涉及一種鋁蝕刻液生產設備。背景技術：鋁蝕刻液生產設備主要包括混合罐、過濾器和儲存罐，將蝕刻液中的各組份在混合罐混合均勻，由過濾器濾去雜質后投入儲存罐中暫存，然后分裝銷售。以往，鋁蝕刻液的分裝由人工操作，隨著自動化技術的興起，全自動灌裝線在鋁蝕刻液生產企業得到廣泛應用，但是，我司的鋁蝕刻液生產車間面積較小，無法放置自動灌裝線，所以需要對現有的生產設備進行改造，以實現鋁蝕刻液的全自動灌裝。技術實現要素：本實用新型提出了一種鋁蝕刻液生產設備，以解決上述背景技術中提出的問題。為達前述目的，本實用新型提供的技術方案如下：鋁蝕刻液生產設備，包括混合罐、過濾器、數個儲存罐、數輛液壓升降式拖車和地磅，所述混合罐通過液管與所述過濾器連接，所述過濾器的出液口處安裝有氣動升降式出液管，每個所述儲存罐固定在對應的拖車頂部，所述儲存罐的進液口和出液口處安裝有單向液動閥，所述地磅位于所述過濾器的下方，所述地磅的頂部設置有將所述拖車固定的氣動夾緊機構。在本技術方案中，載有空儲存罐的拖車置于地磅上方，過濾器的出液管自動下行插入儲存罐的進液口中，當地磅所測得的重量達到系統預設重量時。合肥銀蝕刻液蝕刻液費用