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    本發明提供如下技術方案：一種拋光減薄裝置，包括：托盤，用于固定待加工部件，所述待加工部件包括inp基晶圓；噴頭，用于向所述待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，以對所述待加工表面進行拋光；磁轉子，放置在所述待加工部件的待加工表面上，用于通過旋轉對所述待加工表面進行機械研磨，對所述待加工表面進行減薄。可選地，還包括控制部件；所述控制部件與所述磁轉子和所述噴頭相連，用于控制所述噴頭和所述磁轉子交替工作，以對所述待加工表面交替進行拋光和減薄。可選地，所述磁轉子包括截面為半圓形的柱狀磁性結構和位于所述磁性結構底部的研磨層，以通過所述研磨層對所述待加工表面進行機械研磨。可選地，所述研磨層為金屬氧化物層，所述金屬氧化物層包括三氧化二鋁層。可選地，還包括：熱板，設置于所述托盤底部，用于對所述托盤進行加熱，以使所述待加工部件與所述托盤鍵合固定。可選地，所述待加工部件與所述托盤通過光刻膠鍵合固定。一種拋光減薄方法，包括：將待加工部件固定在托盤上，所述待加工部件包括inp基晶圓；通過噴頭向所述待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，來對所述待加工表面進行拋光；通過磁轉子旋轉對所述待加工表面進行機械研磨。

    降低待加工部件20如inp基晶圓的機械加工損傷。由于本發明實施例中采用光刻膠對托盤和待加工部件進行了固定，因此，對待加工部件的待加工表面進行拋光和減薄之后，還包括：對待加工部件進行清洗；采用特定溶液對光刻膠進行腐蝕，以將待加工部件與托盤分離。具體地，在完成拋光和減薄后，可以采用直鏈烷基苯磺酸鹽溶劑對待加工部件20進行清洗，用di水沖洗干凈，40℃的氮氣吹干。之后，將清洗后的待加工部件20和托盤10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min，使得待加工部件20和托盤10自動分離，取出待加工部件20后清洗干凈即可。本發明實施例提供的方法，還包括：在磁轉子運行一段時間后，更換磁轉子。如磁轉子12工作1小時后，可以將磁轉子12更換為新的磁轉子，以使磁轉子與待加工表面貼合緊密，避免了傳統減薄工藝中由于轉子形變誤差造成的加工精度失真。本說明書中各個實施例采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。對于實施例公開的裝置而言，由于其與實施例公開的方法相對應，所以描述的比較簡單，相關之處參見方法部分說明即可。對所公開的實施例的上述說明。減薄清洗劑，專為提升產品質量而設計，讓您的產品更出色。

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