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中山半導(dǎo)體場效應(yīng)管

來源: 發(fā)布時間:2023年08月29日

場效應(yīng)管具有輸入阻抗高、低噪聲等特點,因此經(jīng)常作為多級放大電流的輸入級,與三極管一樣,根據(jù)輸入、輸出回路公共端選擇不同,將場效應(yīng)管放電電路分為共源、公漏、共柵三種狀態(tài),如下圖是場效應(yīng)管共源放大電路,其中:Rg是柵極電阻,將Rs壓降加至柵極;Rd是漏極電阻,將漏極電流轉(zhuǎn)換成漏極電壓,并影響放大倍數(shù)Au;Rs是源極電阻,為柵極提供偏壓;C3是旁路電容,消除Rs對交流信號的衰減。由于場效應(yīng)管是電壓型控制器件,它的柵極幾乎不取電流,輸入阻抗非常高,其實要想獲得較大恒流輸出,并且精度提高可以采取基準源與比較器結(jié)合方法來獲得所需要的效果。 場效應(yīng)管的可靠性較高,壽命長。中山半導(dǎo)體場效應(yīng)管

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用測電阻法判別無標志的場效應(yīng)管:首先用測量電阻的方法找出兩個有電阻值的管腳,也就是源極S和漏極D,余下兩個腳為點柵極G1和柵極G2。把先用兩表筆測的源極S與漏極D之間的電阻值記下來,對調(diào)表筆再測量一次,把其測得電阻值記下來,兩次測得阻值較大的一次,黑表筆所接的電極為漏極D;紅表筆所接的為源極S。用這種方法判別出來的S、D極,還可以用估測其管的放大能力的方法進行驗證,即放大能力大的黑表筆所接的是D極;紅表筆所接地是8極,兩種方法檢測結(jié)果均應(yīng)一樣。當確定了漏極D、源極S的位置后,按D、S的對應(yīng)位置裝人電路,一般G1、G2也會依次對準位置,這就確定了兩個柵極G1、G2的位置,從而就確定了D、S、G1、G2管腳的順序。 中山半導(dǎo)體場效應(yīng)管場效應(yīng)管的應(yīng)用領(lǐng)域包括通信、電源等。

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場效應(yīng)管的檢測方法:(1)準備工作測量之前,先把人體對地短路后,才能摸觸MOSFET的管腳。比較好在手腕上接一條導(dǎo)線與大地連通,使人體與大地保持等電位。再把管腳分開,然后拆掉導(dǎo)線。(2)判定電極將萬用表撥于R×100檔,首先確定柵極。若某腳與其它腳的電阻都是無窮大,證明此腳就是柵極G。交換表筆重測量,S-D之間的電阻值應(yīng)為幾百歐至幾千歐,其中阻值較小的那一次,黑表筆接的為D極,紅表筆接的是S極。日本生產(chǎn)的3SK系列產(chǎn)品,S極與管殼接通,據(jù)此很容易確定S極。(3)檢查放大能力(跨導(dǎo))將G極懸空,黑表筆接D極,紅表筆接S極,然后用手指觸摸G極,表針應(yīng)有較大的偏轉(zhuǎn)。雙柵MOS場效應(yīng)管有兩個柵極G1、G2。為區(qū)分之,可用手分別觸摸G1、G2極,其中表針向左側(cè)偏轉(zhuǎn)幅度較大的為G2極。

根據(jù)材料的不同,場效應(yīng)管可以分為MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)管)和JFET(結(jié)型場效應(yīng)管)兩種。MOSFET是目前應(yīng)用*****的場效應(yīng)管,它由金屬柵極、絕緣層和半導(dǎo)體構(gòu)成。JFET則是由PN結(jié)構(gòu)構(gòu)成,柵極與半導(dǎo)體之間沒有絕緣層。MOSFET具有輸入電容小、開關(guān)速度快等優(yōu)點,適用于高頻放大和開關(guān)電路;而JFET具有輸入電容大、噪聲低等特點,適用于低頻放大和調(diào)節(jié)電路。場效應(yīng)管具有許多獨特的特點,使其在電子器件中得到廣泛應(yīng)用。首先,場效應(yīng)管的輸入阻抗高,可以減小輸入信號源的負載效應(yīng),提高電路的靈敏度。其次,場效應(yīng)管的輸出阻抗低,可以提供較大的輸出電流,適用于驅(qū)動負載電路。此外,場效應(yīng)管的噪聲低,可以提高電路的信噪比。此外,場效應(yīng)管還具有體積小、功耗低、可靠性高等優(yōu)點,適用于集成電路和便攜式設(shè)備。P溝道MOS場效應(yīng)管和N溝道MOS場效應(yīng)管總是在相反的狀態(tài)下工作,其相位輸入端和輸出端相反。

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場效應(yīng)管的應(yīng)用常用的場效應(yīng)晶體管是金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管 。CMOS (互補金屬氧化物半導(dǎo)體)工藝技術(shù)是現(xiàn)代數(shù)字化集成電路的基礎(chǔ)。這種工藝技術(shù)采用一種增強模式設(shè)計,即p溝道MOSFET和n溝道MOSFET串聯(lián)連接,使得當一個導(dǎo)通時,另一個閉合。在場效應(yīng)晶體管中,當以線性模式工作時,電子可以沿任意方向流過溝道。漏極和源極的命名慣例有些隨意,因為器件通常(但不總是)從源極到漏極對稱構(gòu)建。這使得場效應(yīng)晶體管適合在路徑之間切換模擬信號(多路復(fù)用)。利用這個概念可用于構(gòu)建固態(tài)混合板。 場效應(yīng)管的優(yōu)勢包括低噪聲、高輸入阻抗、低功耗、高頻率響應(yīng)等。中山半導(dǎo)體場效應(yīng)管

ID流經(jīng)通路的寬度,即溝道截面積,它是由pn結(jié)反偏的變化,產(chǎn)生耗盡層擴展變化控制的緣故。中山半導(dǎo)體場效應(yīng)管

場效應(yīng)管是只要一種載流子參與導(dǎo)電,用輸入電壓控制輸出電流的半導(dǎo)體器件。有N溝道器件和P溝道器件。有結(jié)型場效應(yīng)三極管JFET(JunctionFieldEffectTransister)和絕緣柵型場效應(yīng)三極管FET之分。FET也稱金屬-氧化物-半導(dǎo)體三極管MOSFET。MOS場效應(yīng)管有增強型(EnhancementMOS或EMOS)和耗盡型(MOS或DMOS)兩大類,每一類有N溝道和P溝道兩種導(dǎo)電類型。場效應(yīng)管有三個電極:D(Drain)稱為漏極,相當雙極型三極管的集電極;G(Gate)稱為柵極,相當于雙極型三極管的基極;S(Source)稱為源極,相當于雙極型三極管的發(fā)射極。增強型MOS(EMOS)場效應(yīng)管MOSFET根本上是一種左右對稱的拓撲構(gòu)造,它是在P型半導(dǎo)體上生成一層SiO2薄膜絕緣層,然后用光刻工藝擴散兩個高摻雜的N型區(qū),從N型區(qū)引出電極,一個是漏極D,一個是源極S。在源極和漏極之間的絕緣層上鍍一層金屬鋁作為柵極G。P型半導(dǎo)體稱為襯底(substrat),用符號B表示。工作原理1.溝道構(gòu)成原理當Vgs=0V時,漏源之間相當兩個背靠背的二極管,在D、S之間加上電壓,不會在D、S間構(gòu)成電流。當柵極加有電壓時,若0<Vgs<Vgs(th)時(VGS(th)稱為開啟電壓),經(jīng)過柵極和襯底間的電容作用,將靠近柵極下方的P型半導(dǎo)體中的空穴向下方排擠。 中山半導(dǎo)體場效應(yīng)管

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