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個性化MEMS微納米加工的傳感器

來源: 發布時間:2025年05月13日

MEMS制作工藝柔性電子的常用材料:

碳納米管(CNT)由于其高的本征載流子遷移率,導電性和機械靈活性而成為用于柔性電子學的有前途的材料,既作為場效應晶體管(FET)中的溝道材料又作為透明電極。管狀碳基納米結構可以被設想成石墨烯卷成一個無縫的圓柱體,它們獨特的性質使其成為理想的候選材料。因為它們具有高的固有載流子遷移率和電導率,機械靈活性以及低成本生產的潛力。另一方面,薄膜基碳納米管設備為實現商業化提供了一條實用途徑。 硅片、LN 等基板金屬電極加工工藝,通過濺射沉積與剝離技術實現微米級電極圖案化。個性化MEMS微納米加工的傳感器

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MEMS技術的主要分類:光學方面相關的資料與技術。光學隨著信息技術、光通信技術的迅猛發展,MEMS發展的又一領域是與光學相結合,即綜合微電子、微機械、光電子技術等基礎技術,開發新型光器件,稱為微光機電系統(MOEMS)。微光機電系統(MOEMS)能把各種MEMS結構件與微光學器件、光波導器件、半導體激光器件、光電檢測器件等完整地集成在一起。形成一種全新的功能系統。MOEMS具有體積小、成本低、可批量生產、可精確驅動和控制等特點。江蘇MEMS微納米加工產業化MEMS四種ICP-RIE刻蝕工藝的不同需求。

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通過MEMS技術制作的生物傳感器,圍繞細胞分選檢測、生物分子檢測、人工聽覺微系統等方向,突破了高通量細胞圖形化、片上細胞聚焦分選、耳蝸內聲電混合刺激、高時空分辨率相位差分檢測等一批具有自主知識產權的關鍵技術,取得了一批原創性成果,研制了具有世界很高水平的高通量原位細胞多模式檢測系統、流式細胞儀、系列流式細胞檢測芯片等檢測儀器,打破了相關領域國際廠商的技術封鎖和壟斷。總之,面向醫療健康領域的重大需求,經過多年持續的努力,我們取得一系列具有國際先進水平的科研成果,部分技術處于國際前列地位,其中多項技術尚屬國際開創。

熱敏柔性電極的PI三明治結構加工技術:熱敏柔性電極采用PI(聚酰亞胺)三明治結構,底層PI作為柔性基板,中間層為金屬電極,上層PI實現絕緣保護,開窗漏出Pad引線位置,兼具柔韌性與電學性能。加工過程中,首先在25μm厚度的PI基板上通過濺射沉積5μm厚度的銅/金電極層,利用光刻膠作為掩膜進行濕法刻蝕,形成10-50μm寬度的電極圖案,線條邊緣粗糙度<1μm;然后涂覆10μm厚度的PI絕緣層,通過激光切割開設引線窗口,窗口定位精度±5μm;***經300℃高溫亞胺化處理,提升層間結合力(剝離強度>10N/cm)。該電極的彎曲半徑可達5mm,耐彎折次數>10萬次,表面電阻<5Ω/□,適用于可穿戴體溫監測、心率傳感器等設備。在醫療領域,用于術后傷口熱敷的柔性加熱電極,可通過調節輸入電壓實現37-42℃精細控溫,溫度均勻性誤差<±0.5℃,避免局部過熱損傷組織。公司支持電極圖案的個性化設計,可集成熱電偶、NTC熱敏電阻等傳感器,實現“感知-驅動”一體化,推動柔性電子技術在醫療健康與智能設備中的廣泛應用。太赫茲柔性電極以 PI 為基底構建雙面結構,適用于非侵入式生物檢測與材料無損探測。

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物聯網普及極大拓展MEMS應用場景。物聯網的產業架構可以分為四層:感知層、傳輸層、平臺層和應用層,MEMS器件是物聯網感知層重要組成部分。物聯網的發展帶動智能終端設備普及,推動MEMS需求放量,據全球移動通信系統協會GSMA統計,全球物聯網設備數量已從2010年的20億臺,增長到2019年的120億臺,未來受益于5G商用化和WiFi 6的發展,物聯網市場潛力巨大,GSMA預測,到2025年全球物聯網設備將達到246億臺,2019到2025年將保持12.7%的復合增長率。EBL設備制備納米級超透鏡器件的原理是什么?重慶MEMS微納米加工之PI柔性器件

超薄石英玻璃雙面套刻加工技術,在 100μm 以上基板實現微流道與金屬電極的高精度集成。個性化MEMS微納米加工的傳感器

MEMS制作工藝ICP深硅刻蝕:

在半導體制程中,單晶硅與多晶硅的刻蝕通常包括濕法刻蝕和干法刻蝕兩種方法各有優劣,各有特點。濕法刻蝕即利用特定的溶液與薄膜間所進行的化學反應來去除薄膜未被光刻膠掩膜覆蓋的部分,而達到刻蝕的目的。因為濕法刻蝕是利用化學反應來進行薄膜的去除,而化學反應本身不具方向性,因此濕法刻蝕過程為等向性。

濕法刻蝕過程可分為三個步驟:

1)化學刻蝕液擴散至待刻蝕材料之表面;

2)刻蝕液與待刻蝕材料發生化學反應;

3)反應后之產物從刻蝕材料之表面擴散至溶液中,并隨溶液排出。濕法刻蝕之所以在微電子制作過程中被采用乃由于其具有低成本、高可靠性、高產能及優越的刻蝕選擇比等優點。

但相對于干法刻蝕,除了無法定義較細的線寬外,濕法刻蝕仍有以下的缺點:1)需花費較高成本的反應溶液及去離子水:2)化學藥品處理時人員所遭遇的安全問題:3)光刻膠掩膜附著性問題;4)氣泡形成及化學腐蝕液無法完全與晶片表面接觸所造成的不完全及不均勻的刻蝕 個性化MEMS微納米加工的傳感器

標簽: 數字ELISA
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