場效應管是場效應晶體管(FieldEffectTransistor,FET)的簡稱。它屬于電壓型半導體器件,具有輸入電阻高、噪聲小、功耗低、沒有二次擊穿現象、安全工作區域寬、受溫度影響小等,特別適用于高靈敏度和低噪聲的電路,現已成為普通晶體管的強大競爭者。普通晶體管(三極管)是一種電流元件,工作時,多數載流子和少數載流子都參與運行,所以被稱為雙極型晶體管;而場效應管(FET)是一種電壓器件(改變其柵源電壓就可以改變其漏極電流),工作時,只有一種載流子參與導電,因此它是單極型晶體管。場效應管和三極管一樣都能實現信號的和放大,但由于他們構造和工作原理截然不同,所以二者的差異很大。在某些特殊應用方面,場效應管優于三極管,是三極管無法替代的。 場效應管的作用是放大電信號或作為開關控制電路中的電流。中山高壓場效應管供應
場效應管,作為電子學領域中的重要元件,具有獨特的性能和廣泛的應用。它是一種利用電場效應來控制電流的半導體器件。與傳統的雙極型晶體管相比,場效應管具有輸入阻抗高、噪聲低、功耗小等優點。例如,在高保真音頻放大器中,場效應管的低噪聲特性能夠確保音頻信號的純凈度,為聽眾帶來清晰、逼真的聲音體驗。在通信領域,其高輸入阻抗有助于減少信號的損耗和干擾,從而提高通信質量。場效應管的工作原理基于電場對導電溝道的控制。以常見的N溝道場效應管為例,當柵極電壓低于閾值電壓時,溝道關閉,沒有電流通過;當柵極電壓高于閾值電壓時,溝道形成,電流得以導通。這種通過電場控制電流的方式,使得場效應管在電路設計中具有很大的靈活性。比如,在電源管理電路中,可以利用場效應管的導通和截止來實現電壓的穩定輸出。而且,由于場效應管的導通電阻較小,在大電流應用中能夠有效地降低功率損耗。惠州氧化物半導體場效應管供應場效應管的靜態功耗較低。
場效應管使用時應注意:(1)器件出廠時通常裝在黑色的導電泡沫塑料袋中,切勿自行隨便拿個塑料袋裝。也可用細銅線把各個引腳連接在一起,或用錫紙包裝。(2)取出的器件不能在塑料板上滑動,應用金屬盤來盛放待用器件。(3)焊接用的電烙鐵必須良好接地。(4)在焊接前應把電路板的電源線與地線短接,再MOS器件焊接完成后在分開。(5)器件各引腳的焊接順序是漏極、源極、柵極。拆機時順序相反。(6)電路板在裝機之前,要用接地的線夾子去碰一下機器的各接線端子,再把電路板接上去。(7)場效應晶體管的柵極在允許條件下,比較好接入保護二極管。在檢修電路時應注意查證原有的保護二極管是否損壞。
根據材料的不同,場效應管可以分為MOSFET(金屬氧化物半導體場效應管)和JFET(結型場效應管)兩種。MOSFET是目前應用*****的場效應管,它由金屬柵極、絕緣層和半導體構成。JFET則是由PN結構構成,柵極與半導體之間沒有絕緣層。MOSFET具有輸入電容小、開關速度快等優點,適用于高頻放大和開關電路;而JFET具有輸入電容大、噪聲低等特點,適用于低頻放大和調節電路。場效應管具有許多獨特的特點,使其在電子器件中得到廣泛應用。首先,場效應管的輸入阻抗高,可以減小輸入信號源的負載效應,提高電路的靈敏度。其次,場效應管的輸出阻抗低,可以提供較大的輸出電流,適用于驅動負載電路。此外,場效應管的噪聲低,可以提高電路的信噪比。此外,場效應管還具有體積小、功耗低、可靠性高等優點,適用于集成電路和便攜式設備。在放大器中,場效應管可以用于放大音頻信號、射頻信號和微波信號。
場效應管的測試判定估測場效應管的放大能力: 將萬用表撥到R×100檔,紅表筆接源極S,黑表筆接漏極D,相當于給場效應管加上1.5V的電源電壓。這時表針指示出的是D-S極間電阻值。然后用手指捏柵極G,將人體的感應電壓作為輸入信號加到柵極上。由于管子的放大作用,UDS和ID都將發生變化,也相當于D-S極間電阻發生變化,可觀察到表針有較大幅度的擺動。如果手捏柵極時表針擺動很小,說明管子的放大能力較弱;若表針不動,說明管子已經損壞。場效應管是一種常用的電子器件。深圳中低功率場效應管廠家現貨
場效應晶體管可由溝道和柵極之間的絕緣方法來區分。中山高壓場效應管供應
當GATE和BACKGATE之間的電壓差小于閾值電壓時,不會形成channel。當電壓差超過閾值電壓時,channel就出現了。MOS電容:(A)未偏置(VBG=0V),(B)反轉(VBG=3V),(C)積累(VBG=-3V)。
當MOS電容的GATE相對于backgate是負電壓時的情況。電場反轉,往表面吸引空穴排斥電子。硅表層看上去更重的摻雜了,這個器件被認為是處于accumulation狀態了。MOS電容的特性能被用來形成MOS管。Gate,電介質和backgate保持原樣。在GATE的兩邊是兩個額外的選擇性摻雜的區域。其中一個稱為source,另一個稱為drain。假設source和backgate都接地,drain接正電壓。只要GATE對BACKGATE的電壓仍舊小于閾值電壓,就不會形成channel。Drain和backgate之間的PN結反向偏置,所以只有很小的電流從drain流向backgate。如果GATE電壓超過了閾值電壓,在GATE電介質下就出現了channel。這個channel就像一薄層短接drain和source的N型硅。由電子組成的電流從source通過channel流到drain。
總的來說,只有在gate對source電壓V超過閾值電壓Vt時,才會有drain電流。
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