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    UV照射后產生GAS，可以從接著體上剝離開來。特征UV照射后粘著劑自行產出氮氣使粘力下降，可在晶圓不受外力的情況下實現自行剝離。用途晶圓化學鍍UBM時的背面保護膜、防止晶圓在剝離中受損用途例鍍UBM的工藝適用前處理(alkali堿溶液，PH9）后處理（強酸，強堿）鍍金屬處理（Ni，Au等）特性一般物性項目單位膠帶厚度基材25μm粘著劑30μm項目單位SUSSiWafer金粘著力初期N/：180度剝離UV照射：1000MJ晶圓/芯片制造工藝相關產品一覽產品分類產品名特征UV剝離膠帶耐熱，高附著力，易剝離的UV膠帶，用于半導體工藝【SELFAHS】結合了耐半導體工藝特性+低殘膠的UV剝離膠帶。在各種PKG制造過程中可保護器件表面并抑制翹曲。UV剝離膠帶高耐熱，高粘附力，易剝離的雙面UV膠帶，用于臨時鍵合工藝【SELFAHW】結合了耐半導體工藝特性+低殘膠的UV剝離膠帶。用于玻璃乘載工藝時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剝離膠帶UV自行剝離膠帶用于化學鍍金UBM工藝【SELFA-MP】具有高耐化學性和低殘留性的UV剝離膠帶；透過UV照射產生氣體，剝離時可減少對設備的損傷。

積水化學電子領域綜合網站TOPICS積水化學首頁LanguageEnglish中文日本語???產品咨詢按設備種類搜索按應用場景搜索按產品類別搜索按功能搜索產品一覽PCB制造程中的光罩保護膠帶Tackwell首頁膠帶PCB制造程中的光罩保護膠帶Tackwell高耐久類型（離型）Tackwell157SD,SD-S防止由于溶劑引起的離型層脫落，即使是高粘連性的液狀濕膜，可容易從底片剝離。有些無鹵型和封裝基板用液狀綠漆使用特殊溶劑，該溶液會使離型層脫落，因此經過幾次曝光后就必須更換膠帶。TACKWELL＃157SD可防止此類溶劑引起的離型層脫落，并且通過大幅提高TACKWELL的耐久性，在使用液狀綠漆時保護膜的更換次數可減少到小限度。而且，由于具有杰出的光學特性，也適用于BGA等高密度封裝基板。離型層脫落測試積水測試方法按照實際的基板曝光方式，多次曝光，進行測試。sekisui積水膠帶，6364型號齊全！

LCD部件固定用膠帶積水#550R6BW/積水#550P8BW是固定背光源模組和LCD模組而開發的雙面膠帶采用特殊黑白3800系列LCD部件固定用雙面膠帶積水3800BWC，積水3805BWC積水3806BWC耐反制力3800BWH積水3803BWH積水3804BWH積水3805BWH積水3806BWH積水3808BWH積水3810BWH積水3812BWH積水3815BWH片面積水3800BWS積水3805BWS積水3809BWS再使用3800BWAP積水3800BWSH積水3805BWSH積水3806BWAP積水3808BWAP遮光應力緩和3800BC積水3805BC積水3806BC積水3808BC耐反制力積水3800BH積水3800BHB積水3802BH積水3803BH積水3804BH積水3805BH積水3805BHB積水3806BH積水3806BHB積水3808BH積水3808BHB積水3810BH積水3812BH積水3815BH積水3820BH窄邊框用3800BZ積水3802BZ積水3803BZ片面3800BS積水3801BXS積水3803BS積水3805BS積水3808BS積水3810BS再使用積水3800BAP積水3800BSH積水3805BAP積水3805BSH積水3806BAP積水3806BSH積水3808BAP積水3808BSH各種粘接用途透明應力緩和積水3800積水3803積水3805耐反制力積水3800H積水3803H積水3805H積水3808H積水3810H積水3812H積水3815H積水3820H再使用積水3800AP積水3805AP極薄積水3800X3801X反射耐反制3800WH積水3803WH積水3805WH積水3806WH積水3808WH積水3810WH。sekisui積水膠帶，WL03型號齊全！江西防水積水膠帶推薦廠家

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UV自行剝離膠帶用于化學鍍金UBM工藝SELFA-MP電鍍工程中的背面保護用的膠帶，UV照射后產生GAS，可以從接著體上剝離開來。特征UV照射后粘著劑自行產出氮氣使粘力下降，可在晶圓不受外力的情況下實現自行剝離。用途晶圓化學鍍UBM時的背面保護膜、防止晶圓在剝離中受損用途例鍍UBM的工藝適用前處理(alkali堿溶液，PH9）后處理（強酸，強堿）鍍金屬處理（Ni，Au等）特性一般物性項目單位膠帶厚度基材25μm粘著劑30μm項目單位SUSSiWafer金粘著力初期N/25mm15.514.110.5UV照射后N/25mm000粘合力：180度剝離UV照射：1000MJ晶圓/芯片制造工藝相關產品一覽產品分類產品名特征UV剝離膠帶耐熱，高附著力，易剝離的UV膠帶，用于半導體工藝【SELFAHS】結合了耐半導體工藝特性+低殘膠的UV剝離膠帶。在各種PKG制造過程中可保護器件表面并抑制翹曲。UV剝離膠帶高耐熱，高粘附力，易剝離的雙面UV膠帶，用于臨時鍵合工藝【SELFAHW】結合了耐半導體工藝特性+低殘膠的UV剝離膠帶。用于玻璃乘載工藝時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剝離膠帶UV自行剝離膠帶用于化學鍍金UBM工藝【SELFA-MP】具有高耐化學性和低殘留性的UV剝離膠帶；透過UV照射產生氣體，剝離時可減少對設備的損傷。江西防水積水膠帶推薦廠家