等離子體技術(shù)大范圍應(yīng)用于芯片制造、新材料、環(huán)保產(chǎn)業(yè)、醫(yī)學(xué)、農(nóng)業(yè)、新能源等領(lǐng)域,是這些領(lǐng)域技術(shù)升級(jí)的重要方向。但是,國(guó)內(nèi)外等離子體技術(shù)的研究及產(chǎn)業(yè)化力量處于極為分散狀態(tài),缺乏集中進(jìn)行的主要技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的孵化平臺(tái)及機(jī)制。為此,由數(shù)位國(guó)家重點(diǎn)人才工程**,復(fù)旦大學(xué)、浙江大學(xué)、南京大學(xué)、東南大學(xué)、蘇州大學(xué)、南京工業(yè)大學(xué)、常州大學(xué)、等科研團(tuán)隊(duì)及產(chǎn)業(yè)化平臺(tái),十余家相關(guān)產(chǎn)業(yè)配套企業(yè)共同組建“先進(jìn)等離子體技術(shù)研究院”(法人單位:江蘇先競(jìng)等離子體技術(shù)研究院有限公司)
近年來(lái),等離子體射流的研究取得了一些重要進(jìn)展。首先,研究人員通過(guò)改進(jìn)等離子體射流的噴嘴結(jié)構(gòu)和設(shè)計(jì),提高了等離子體射流的加速的效果和...
在氣相沉積過(guò)程中,基體表面的狀態(tài)對(duì)薄膜的生長(zhǎng)和性能具有明顯影響。因此,在氣相沉積前,對(duì)基體進(jìn)行預(yù)處理,如清洗、活化等,是提高薄膜質(zhì)...
在環(huán)境保護(hù)領(lǐng)域,氣相沉積技術(shù)也發(fā)揮著重要作用。通過(guò)制備高效、環(huán)保的薄膜材料,氣相沉積技術(shù)為環(huán)境污染治理提供了有力支持。例如,制備具...
隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,氣相沉積技術(shù)也在不斷創(chuàng)新和完善。新的沉積方法、設(shè)備和材料不斷涌現(xiàn),為氣相沉積技術(shù)的應(yīng)用提供了更廣闊的空間。...
直流(DC)電源定義:直流電源提供的是恒定的電流和電壓,不隨時(shí)間變化。應(yīng)用:直流電源多用于產(chǎn)生電暈放電或直流輝光放電。在等離子體應(yīng)...
隨著科技的不斷發(fā)展,等離子體射流的應(yīng)用前景將更加廣闊。然而,要實(shí)現(xiàn)等離子體射流的廣泛應(yīng)用,還需要克服一系列技術(shù)挑戰(zhàn)。例如,如何提高...
在工業(yè)領(lǐng)域中,等離子體射流技術(shù)還應(yīng)用于氣動(dòng)熱模擬試驗(yàn)。通過(guò)模擬超高速飛行器進(jìn)入大氣層時(shí)所處的嚴(yán)重氣動(dòng)加熱環(huán)境,等離子體射流技術(shù)為研...
氣相沉積技術(shù)中的金屬有機(jī)氣相沉積(MOCVD)是一種重要的制備方法,特別適用于制備高純度、高結(jié)晶度的化合物薄膜。MOCVD通過(guò)精確...
等離子體射流作為一種具有廣泛應(yīng)用前景的技術(shù),其研究和應(yīng)用也在不斷深入和拓展。隨著科技的不斷進(jìn)步和創(chuàng)新,相信等離子體射流將在更多領(lǐng)域...